上海證券交易所網站消息,1月8日,半導體龍頭中微公司發布公告稱,公司創始人、董事長兼總經理尹志堯計劃自公告披露之日起15個交易日后的3個月內,通過集中競價方式減持公司股份不超過29萬股,占公司總股本比例約為0.046%。
公告顯示,被譽為“中國刻蝕機之父”的尹志堯減持股份的原因是:“因本人已從外籍恢復為中國籍,為依法辦理相關稅務的需要。”
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中微公司公告上交所網站
截至1月9日收盤,中微公司股價報336.68元/股,總市值為2108億元。按此收盤價推算,尹志堯擬減持的約29萬股股票市值約為人民幣9764萬元,擬套現近1億元。
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東方財富網
公開資料顯示,尹志堯,生于1944年,中國國籍,擁有中國科學技術大學學士學位及加州大學洛杉磯分校博士學位。
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尹志堯(資料圖)視頻截圖
尹志堯的職業生涯始于1984年,先后在硅谷多家頂尖半導體企業積累了豐富經驗。1984年至1986年,他在英特爾中心技術開發部擔任工藝工程師;1986年至1991年,在泛林半導體歷任資深工程師及研發部資深經理;1991年至2004年,供職于應用材料公司,期間先后擔任等離子體刻蝕設備產品總部首席技術官、總公司副總裁兼事業群總經理,以及亞洲總部首席技術官。2004年,尹志堯回國創立中微公司,并一直擔任董事長、總經理及核心技術負責人至今。
每日經濟新聞此前報道,中微公司在2022年年報中仍明確標注尹志堯為美國公民;2023年年報未披露其國籍信息;直至2024年年報,才正式確認其已恢復中國國籍。
另據上海證券報報道,近十年間,尹志堯帶領團隊持續突破技術壁壘,半導體設備領域的全國首臺套捷報頻傳:2015年,率先提出“皮米級”加工精度概念,開發出世界先進水平的CCP和ICP等離子體刻蝕設備;2018年,自主知識產權刻蝕機進入客戶5納米產線;2010年—2025年,推動開發了MOCVDLPCVDALDEPIPEVCD等一系列國際領先的薄膜設備;2025年,ICP雙反應臺刻蝕機精度達0.1nm(納米),技術達到全球先進水平。
中微公司最新披露的三季報顯示,2025年前三季度,公司保持強勁發展勢頭,實現營業收入80.63億元,同比增長46.40%;實現歸屬于上市公司股東凈利潤12.11億元,同比增長32.66%。
中微公司在三季報中表示,根據規劃,未來五到十年,其對集成電路關鍵設備領域的覆蓋度將提升至60%,將攜手行業上下游的合作伙伴,實現高速、穩定、健康和安全的高質量發展,力爭盡早在規模上和競爭力上成為國際一流的半導體設備公司。
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