湖南
作為中國大陸最強的芯片代工企業，大家都希望中芯國際能夠追上，甚至超過臺積電，成為全球芯片代工一哥，那么中國芯片產業就真正崛起，再也不擔憂禁令，不用害怕被卡脖子了。
而很多人也認為，雖然現在中芯國際落后臺積電還太遠，但只要努力突破，堅定的發展，那么追上臺積電是必然的。
當然，有這個想法，有這個信心當然是好的，但我覺得，有一個前提，那就是EUV光刻機必須要有，不管是自研，還是找別人買都行，如果沒有EUV光刻機，中芯國際是很難追得上臺積電的。
目前芯片大規模制造，均是基于光刻方案，所以光刻機是必不可少的。
雖然有NIL方案，還有什么BEL方案，又有DSA方案，但這些都暫時無法實現大規模芯片制造，只有光刻才行。
光刻方案下，光刻機與芯片工藝是對應的。
目前制造7nm以下的芯片，也就是像5nm、3nm、2nm的芯片，都必須使用到EUV，還沒有使用浸潤式DUV光刻機，制造出5nm芯片的先例。
理論上浸潤式DUV光刻機，能制造5nm芯片，但是這只是理論，實際上會受到良率、效率、成本等問題的影響，用浸潤式DUV光刻機，就沒法低成本的制造商用型的大規模芯片。
所以，情況就很明顯了，如果沒有EUV，中芯國際也很難大規模的量產5nm及以下的芯片。
而臺積電2025年四季度的收入中，3nm工藝占到28%；5nm占比為35%；7nm的占比為14%，也就是說5nm及以下工藝占比達到了63%，這63%的收入，都與EUV有關。
假如我們沒有EUV，就靠著浸潤式DUV，能夠在技術上達到臺積電的水平，然后在收入上也追上來？想想也不可能吧。
所以啊，我們盼望中芯國際追上臺積電是沒問題的，覺得中芯國際會追上甚至超過臺積電也是沒有問題的，但要實現這個目標的前提，還是國產光刻機要突破。
坦白講，只要國產EUV突破不了，我們自己沒有EUV，就幾乎不太可能追得上，你覺得叫？
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