昨天,一則關于上海微電子裝備公司中標步進掃描式光刻機的消息,在網絡上激起了不小的水花。
一臺機器,1.09億元的中標額,讓不少關注芯片行業的人為之振奮,甚至帶動了資本市場相關概念的波動。興奮之余,一個最直接的問題也隨之浮現:這臺光刻機,到底有多厲害?它能造出我們心心念念的7nm芯片嗎?
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很坦誠地說,如果抱著這個期待,恐怕要稍稍調整一下視線了。這臺中標的步進掃描式光刻機,它的主戰場并非芯片制造的前道環節——也就是那個在硅片上精細雕刻電路圖、決定芯片制程先進與否的核心步驟。
它更主要的角色,是在芯片制造的“后半場”——封裝環節發揮作用。業內通常稱之為“后道光刻機”。
那么,它在技術隊列里處于什么位置呢?這臺設備屬于KrF光刻機,采用248納米波長的光源。
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在它之上,有采用193納米波長的ArF光刻機(即我們常聽到的DUV光刻機);
再往上,還有技術更復雜的浸潤式ArFi光刻機;
而處于頂尖位置的,則是采用13.5納米極紫外光的EUV光刻機,那是目前生產7納米及以下尖端芯片的必需裝備。
相比之下,這臺248納米光源的設備,單論技術的“先進程度”,確實算不上最前沿。
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從已披露的信息看,它的分辨率在110納米左右。這個參數決定了,如果真要用它來直接制造芯片,大概能應對110納米左右的工藝節點。
這與當今手機、電腦里使用的7納米、5納米芯片,存在代際上的差距。它的強項在于后道封裝,比如實現Chiplet(芯粒)之間高精度的對準、重布線層的刻畫以及凸點成型等,是提升2.5D/3D先進封裝能力的關鍵工具之一。
既然如此,它的中標為何還能引起如此大的關注?其意義,恰恰不在于“炫技”,而在于“可用”和“替代”。
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當前,在全球光刻機市場上,ASML、尼康、佳能等國際巨頭占據主導地位。
同類功能的設備,它們的售價往往超過3000萬美元。而上海微電子的這臺國產設備,中標價約1.1億人民幣,折合美元大約1500萬,價格優勢非常明顯。這對于國內眾多的芯片封裝測試廠商來說,意味著多了一個可靠的、成本更低的選擇。
所以,這臺光刻機最大的價值,或許不是去與ASML在尖端制程的賽道上“掰手腕”——那需要時間、需要全產業鏈的持續突破。
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它的重要意義在于,在一個特定的、卻至關重要的技術領域(先進封裝),實現了國產裝備的從無到有、從不可用到可用的突破,并且具備了實實在在的市場競爭力。它讓國內企業能用更合理的價格,獲得保障生產線的關鍵設備,減少了對外部供應鏈的絕對依賴。
中國芯片產業的自主化之路,注定是一場漫長而需要耐心的跋涉。它既需要仰望星空,攻克EUV那樣的珠穆朗瑪峰;也需要腳踏實地,這條路,每一步不管大小都算數。這臺光刻機,正是堅實的一小步。
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