ASML高管：早就聽聞中國在研發光刻機，但迄今為止，他們沒有一款產品問世

在半導體行業，有一句話幾乎成了標準答案——中國也在搞光刻機，但離真正的產品還很遠。這一次，說這句話的人，是ASML高管。

在最新一次財報會議上，ASML首席財務官直言不諱地表示：“我們早就聽說中國企業在研發光刻機，但到目前為止，他們還沒有拿出任何真正意義上的產品。”這句話迅速被西方媒體引用、放大，也被一些人當成了最終結論。仿佛只要ASML點頭，中國才能算開始；只要ASML否定，中國就永遠在起跑線上。

但事實，真的如此嗎？

先把話說明白一點。ASML高管說的這句話，在字面上并非完全錯誤：中國，確實還沒有對標ASML EUV的成熟商用產品。但問題在于他們刻意忽略了過程，只強調終點。在西方話語體系里，沒有EUV = 沒有光刻機；沒有對標ASML = 等于零。這是一種非常典型的技術霸權邏輯。

ASML高管們心里其實很清楚一件事：真正危險的，不是中國今天有沒有EUV，而是中國已經被徹底逼上了“必須自己造”的道路。美國對中國的芯片制裁，不是減速器，而是點火器。過去，中國大量購買ASML設備，用錢換時間；現在，時間被掐斷了，只能用命換技術。

結果是什么？進口光刻機的錢，開始轉向研發投入；被卡脖子的環節，開始系統性拆解；買設備的邏輯，轉向建體系。這恰恰是ASML前CEO溫寧克反復警告美國政府的原因：“一旦你不賣給中國，他們就一定會自己做。”

中國光刻機，真的一無所有嗎？如果只盯著EUV，答案是“沒有”。但如果看整個光刻體系，情況完全不同。

光刻機不是一臺機器，而是一個系統工程。光刻機=光源+投影物鏡+雙工件臺+控制系統+軟件算法+超高精度制造體系。ASML花了30多年，才把這些拼成一臺EUV。而中國做的事情是：把這張被鎖死的拼圖，一塊一塊拆開重來。

西方經常嘲諷一句話：中國光刻機卡在90nm很多年了。但真實情況是：上海微電子（SMEE）已形成成熟的i-line、KrF光刻機量產能力，ArF干式、ArF浸沒式持續推進，在先進制程之外，封裝、功率器件、顯示面板、MEMS等已實現大規模國產替代。這不是“實驗室玩具”，而是真實進產線的設備。只不過，它們不在最耀眼的EUV舞臺中央。

中國在光刻機光源、精密運動平臺、控制軟件上的進展；國產供應鏈在局部指標上已達到國際一流水平；一批“去ASML化”的工程師，正在形成完整技術梯隊。這些東西，短期看不到終點，但長期一旦貫通，就是不可逆的趨勢。

今天的ASML，確實無可替代。全球唯一EUV供應商、最復雜工業系統之一、技術壁壘極高。但請注意一個事實：ASML并不是天生的王者。當年日本、美國，同樣認為：光刻機是“我們永遠的護城河”，后來者不可能追上。結果呢？ASML，正是當年的“后來者”。

中國光刻機，確實很難，但已經不再是不可能。說一句實話，更容易贏得尊重：EUV，中國現在造不出來；距離ASML，確實還有很長的路。但同樣真實的是： 中國已經走上了正確但艱難的路徑，光刻機不再是“單點幻想”，而是體系工程，時間，正在從“西方優勢”，變成“最大變量”。ASML高管說：“中國還沒有一款產品問世。”但歷史往往證明真正改變格局的，從來不是第一句話，而是后面那幾十年沉默的積累。

你可以輕視中國今天的光刻機，但別低估一個被逼到墻角的產業。西方的傲慢，源自過去的成功；中國的執拗，來自現實的封鎖。也許十年內，ASML依然站在頂峰；但有一點已經無法改變：中國，不會再把命門，交到別人手里。而這，才是ASML高管真正焦慮，卻不愿明說的地方。

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