參考消息網1月9日報道 據臺灣《聯合報》1月6日報道,臺灣檢方偵辦臺積電2納米核心關鍵技術竊密案,查出前工程師陳力銘跳槽日本企業東京威力科創公司后,為得知“蝕刻機臺”量產測試數據,買通時任工程師吳秉駿、戈一平竊取參數配方,2025年起訴3人。檢方偵辦期間,臺積電另一名陳姓工程師涉竊取核心技術給陳力銘,東京威力科創盧姓員工也涉湮滅證據,對3人及東京威力追加起訴。
據報道,起訴指出,陳力銘偵查中坦承犯行,供出陳姓共犯,讓檢方順利查獲陳男,因此求處7年徒刑。陳姓共犯犯后態度欠佳,求處有期徒刑8年8個月。
盧姓員工知悉陳力銘遭臺積電發覺犯行后,刪除陳力銘上傳相關檔案,有妨害刑事案件調查行為,且犯后否認犯案,求處1年徒刑。東京威力公司于本案查證過程中,提供相關事證配合調查,對厘清案情尚有助益,求處罰金2500萬元新臺幣(1元新臺幣約合0.22元人民幣——本網注)。
報道稱,臺檢方指出,檢察官偵辦期間,發覺該公司云端硬盤內,尚存有臺積電核心關鍵技術項,也就是“14納米以下制程技術及其關鍵氣體、化學品及設備技術”營業秘密資料,清查是陳姓員工竊取。
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