荷蘭經濟學家：大概10年以后，中國可能會造出EUV光刻機，達到ASML現在的水平

在全球半導體產業里，西方此前一直有一種說法：EUV光刻機，是中國永遠跨不過去的一道坎。但這種說法，最近幾年正在被越來越多的西方專業人士悄悄修正。在前央視英文頻道主持人楊銳的一次訪談中，荷蘭專業記者、半導體長期觀察者馬克·海金克給出了一個判斷——如果按技術演進邏輯推演，大約10年之后，中國有可能制造出自己的EUV光刻機，達到ASML目前的技術水平。這不是情緒判斷，而是站在產業結構、工程難度和現實路徑上的冷靜分析。

PART.01

EUV不是“突然出現”的神話

很多人以為，ASML的EUV是某個天才工程師靈光一閃的產物。事實上恰恰相反。EUV技術起源于上世紀80年代，真正商業化，發生在2018年之后，從概念驗證到穩定量產，用了將近40年。

ASML之所以能壟斷EUV，并不是因為它更聰明，而是因為它：提前綁定了光源（Cymer）、掌控了反射光學（蔡司）、構建了全球最復雜的系統集成能力。

EUV不是一臺機器，而是一個由數十萬個零部件組成的工程體系。正如海金克所說：“把這些部件真正整合在一起，本身就是人類工程史上最困難的事情之一。”

PART.02

逆境中的涅槃

2017年，中國客戶向ASML采購光刻設備金額達到7億歐元， 2018年，中芯國際正式簽署EUV采購協議，金額約1.2億美元。這是中國大陸首臺EUV設備。當時ASML內部并非反對交付，甚至認為這是“商業上完全合理的行為”。

真正改變局勢的，是美國的系統性干預，多輪施壓荷蘭政府，最終讓EUV交付被叫停。這一決定，并不是基于技術風險，而是基于一句話：不能讓中國掌握下一代制造能力。

EUV被封鎖后，中國沒有坐等解禁，而是被迫選擇了一條成本更高、工程更復雜的路線：DUV + 多重曝光。這是一條“用工程換技術”的道路。海金克給出過一個非常現實的成本對比：EUV路線：光刻：30%，后端設備：70%。DUV多重曝光路線：光刻：20%，后端設備：80%。

換句話說，中國必須在刻蝕、沉積、清洗、量測等后端設備上全面補課。而事實是中國真的補上來了。

過去幾年，中國本土設備企業的變化是實打實的：中微公司：刻蝕設備進入先進制程，北方華創：覆蓋沉積、刻蝕、熱處理，盛美半導體：清洗設備全球出貨，華海清科、長川科技：量測、測試快速追趕。這些企業單拎出來，可能都不是“世界第一”，但拼在一起，已經構成了一套完整的制造工具鏈。正如海金克評價的那樣：“美國的限制，反而迫使中國工程師開發屬于自己的半導體工具包。”

PART.03

未來可期

理性討論，必須把不足說清楚。截至目前，中國在EUV領域的核心短板依然存在：1.高功率EUV光源穩定性不足；2. 超高精度反射鏡制造經驗不足；3. 系統級誤差控制能力尚未驗證；4. 長期量產可靠性沒有數據支撐。

換句話說：中國現在還沒“點亮”真正意義上的EUV生產體系。但問題在于——ASML當年也花了20多年，才解決這些問題。

EUV不是神話，ASML也不是不可逾越的天塹。中國距離真正的國產EUV，還有差距，但這條路已經被逼著走上去了，而且再也退不回來了。10年后能不能達到ASML今天的水平？沒人能給出確定答案。但可以確定的是——如果這件事發生，世界半導體格局，將被永久改寫。

小小寰球，有幾個蒼蠅碰壁。嗡嗡叫，幾聲凄厲，幾聲抽泣。螞蟻緣槐夸大國，蚍蜉撼樹談何易。正西風落葉下長安，飛鳴鏑。

多少事，從來急；天地轉，光陰迫。一萬年太久，只爭朝夕。四海翻騰云水怒，五洲震蕩風雷激。要掃除一切害人蟲，全無敵。

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