荷蘭技術顧問：只要封鎖中國一項光源技術，他們所有光刻機計劃將永遠無法實現

當年荷蘭人 是這么地斷言的：“只要不給中國最先進的光源技術，中國所有的光刻機計劃就永遠無法點亮！”

但是 誰說技術封鎖能輕易阻擋一個國家追夢的腳步？

在被封鎖前，ASML 這家公司幾乎把國際光刻機市場一手掌控，尤其是最先進的 EUV （極紫外）光刻機，用一句話概括：沒有高效 EUV 光源，就等于沒有制造高端芯片的大門鑰匙。 然而事實，正在被中國的工程師一點一點打臉。

先講最核心的科技邏輯：光刻機是芯片制造的曝光器，類似于膠片時代的投影儀；光源（特別是 EUV 光源）就像燈泡：不夠亮、不夠穩定、沒有足夠能量，整臺機器就等于擺設。先進節點工藝（如 7nm、5nm、3nm 甚至更先進）必須使用波長只有 13.5nm 的極紫外光，而這只有極高功率、超穩定光源才能輸出。

荷蘭 ASML 的 EUV 光刻機的核心技術之一，就是它那套高達百萬瓦級別、利用激光激發錫等離子體產生 EUV 光的能量轉換系統，全球僅 ASML + 美國、德國合作伙伴掌握這種封裝級別的技術。

因此，只要這項光源技術被封鎖：中國就沒法獲得先進光刻機，也就無法制造未來 AI、手機、超級計算時代都離不開的芯片。這似乎是全球共識，也是西方封鎖政策設計的一部分。

今年，中國科學院上海光機所科研團隊就在極紫外光源技術上取得了令人驚訝的進展：他們搭建了可產生 EUV 光的實驗光源平臺，最高能量轉換效率達到了 3.42％，不僅超越瑞士和荷蘭實驗室的公開紀錄，還接近部分國際前沿水平。

要知道，歷史上 ASML 的商業化光源需要高效率 CO? 激光驅動等離子體系統，而這類系統幾乎是被西方壟斷的先進裝備。中國團隊創新使用“固體激光器驅動方法”，取得了國際同行都為之側目的結果。

這意味著中國的科研人員正在自己解決“點亮芯片生產燈泡”的根本問題。 即使國外斷供核心光源設備，中國也能靠自主創新開出新的光源技術路線。

被封鎖之后，中國沒有選擇坐以待斃，而是同時推進多個技術路徑：學術界主攻更接近工業化的 LPP（激光激發等離子體）EUV 光源；行業內部還試驗了一種不同的 LDP（放電等離子體）光源方式，據說效率更高、結構更簡單，有可能成為商業化突破路線之一。

這種多路線、開路創新的策略，是中國科研體系一貫的特色：不被單一路線綁架，不急于復制別人現有模式，更愿意探索“野路子”中可能出現的飛躍。結果是：即使荷蘭專家認為中國永遠做不出來；即使出口封鎖頻頻升級；中國科研人員實際上已經在多個重要子技術上開始獲得突破。

荷蘭、美國等對中國的封鎖并非沒有影響：確實，最先進的商業 EUV 光刻機目前仍未能進入中國市場。中國公司也仍未量產全功能 EUV 光刻機。 但反過來看看：中國芯片設備行業過去依賴進口，現在正被逼著自我突破；科研團隊正努力追趕并在光源效率上達到國際前沿；一些公開報道甚至提到中國可能在 2028-2030 年之前完成自主 EUV 機的試產。

換句話說：封鎖不是攔路虎，而成了逼著中國科技自立自強的催化劑。中國芯片產業的故事，還遠沒有結束。而那些曾經的傲慢預測，終將成為技術發展路上的一個注腳 —— 被現實狠狠打臉的注腳。

中國芯，我的心，點個關注支持一下唄！

關注我獲得

聲明：本文素材引自網絡媒體，如有錯誤，請以最新資料為準。本文絕不構成任何投資建議、引導或承諾，請審慎閱讀。

喜歡就 關注 哦

動動小手點個 贊

點 在看 最好看