5.1億！江蘇半導體設備企業被收購

芯東西（公眾號：aichip001）
作者 ZeR0
編輯 漠影

芯東西11月11日報道，11月6日，江蘇蘇州激光直寫光刻機上市公司蘇大維格發公告宣布，擬以自有或自籌資金5.1億元收購江蘇半導體光掩模缺陷檢測設備企業常州維普51%股權。

交易完成后，常州維普成為公司控股子公司，納入蘇大維格合并報表范圍。常州維普（標的公司）主要財務指標占蘇大維格主要財務指標比例如下：

現階段，常州維普產品研發及客戶交付、驗收工作開展順利，在手訂單充足，其創始股東承諾2025年度到2027年度累計凈利潤（以扣除非經常性損益前后孰低原則確定）合計不低于2.4億元。

本次交易不構成《上市公司重大資產重組管理辦法》規定的重大資產重組，不構成重組上市，無需取得有關部門批準。

蘇大維格成立于2001年10月，在高端智能裝備領域研發、生產和銷售各類激光直寫光刻機和納米壓印光刻機，其中以激光直寫光刻機為主。激光直寫光刻機是用于生產制造光掩模的核心設備之一，主要為美國應用材料和瑞典邁康尼等美歐企業所壟斷，國產化率極低。

需注意的是，激光直寫光刻機與用于芯片制造的光刻機不是一個概念，主要用在光電子材料與器件、新型顯示等微納加工行業。

常州維普是江蘇省專精特新“小巨人”企業，是國內極少數在半導體光掩模缺陷檢測設備領域已實現規模化量產的企業，技術、產品和核心算法系正向自研開發，擁有自主知識產權，主要核心零部件實現了國產化和自主可控，產品已進入國內頭部晶圓廠和國內外頭部掩膜版廠商的量產線。

其主營業務為光掩模（又稱掩模、（光刻）掩膜版，光罩等）缺陷檢測設備（收入主要構成）和晶圓缺陷檢測設備的研發、生產和銷售，兩者均屬于半導體量檢測的核心設備。

該公司最近一年又一期的合并口徑主要財務指標如下：

現階段，常州維普業務快速發展，訂單增長較快，并保持了較好的經營性現金流、較強的資產流動性和較高的盈利能力。

2025年1至10月，常州維普實現營收超過1.14億元，實現凈利潤超過5100萬元，經營活動現金流超過5500萬元（以上數據由常州維普提供）。

截至2025年10月31日，常州維普在手訂單約2.5億元，合同負債超過1億元（客戶按一定比例預付的合同價款），賬上貨幣資金及銀行理財約1.4億元，有息負債約800萬元。

根據容誠會計師事務所（特殊普通合伙）出具的《盈利預測審核報告》，常州維普2025年全年營收預測數為1.37億元，歸母凈利潤預測數為6057.80萬元。

常州維普部分股東深創新資本、紅土一號與蘇大維格持股5%以上股東轉型升級基金皆為深圳市創新投資集團有限公司控制的下屬企業，根據《深圳證券交易所創業板股票上市規則》等相關規定，本次部分交易對方深創新資本、紅土一號為公司關聯方，本次交易構成關聯交易。

本次交易前常州維普的股權結構如下：

交易后其股權結構如下：

截至11月11日午間休市，蘇大維格最新市值為83億元。

蘇大維格公告顯示，根據相關報告，2023年全球半導體設備銷售額約1083億美元，預計2025將增長至約1255億美元。以銷售區域看，中國大陸占比逐年提升至35%左右；從銷售類型看，量檢測設備占比約為11%，且國產化率尚不足5%。

2023年，量檢測設備全球市場規模約為128億美元，其中掩膜版缺陷檢測設備份額僅次于明場設備，約18.10億美元，預計2025年將達到22億美元以上。

量檢測設備是集成電路制造核心設備之一，是保證芯片良率的關鍵。掩膜版系芯片生產的母版，關系晶圓良率，相關缺陷檢測設備需達到100%缺陷抓取率，研發難度大，進入壁壘高、客戶粘性強。

在全球掩膜版檢測設備市場，美國科磊（KLA）、日本Lasertec等占據了全球絕大部分的市場份額，亞太地區是最大的區域市場，國內掩膜版檢測設備市場也主要由上述企業壟斷。

根據相關報告，光掩模缺陷檢測設備是前道國產化率最低的環節之一，國產率不足3%，國產替代尚在早期，市場空間巨大。

常州維普是國內極少數在半導體光掩模缺陷檢測設備領域已實現規模化量產的企業，設備產品已實現了對下游主要半導體掩膜版生產廠商（包括晶圓廠自建配套工廠和獨立第三方掩模廠商）的覆蓋。

蘇大維格一直致力于積極拓展激光直寫光刻機在半導體光掩模制造領域的量產應用和國產替代，潛在客戶群體和常州維普現有客戶體系基本重疊，收購常州維普，利用其現有客戶資源，有利于減少蘇大維格的客戶開發成本和產品驗證周期。

此外，蘇大維格在光學系統、精密運動控制平臺上有較深的技術積累，常州維普則在核心算法、軟件系統、電氣電控系統等方面有技術優勢和量產經驗。本次交易后，雙方優勢互補，有利于增強蘇大維格在直寫光刻領域的研發實力，提高產品的迭代速度，提升設備的競爭力。

本次收購完成后，有利于雙方發揮各自在激光直寫光刻和掩模缺陷檢測領域的優勢。蘇大維格可借助常州維普客戶資源及量產經驗，加快推進激光直寫光刻機在半導體光掩模制造和先進封裝領域的量產應用，還可以助力常州維普在先進制程光學系統方面實現突破。

雙方通過技術與業務的協同合作，有利于實現激光直寫光刻機與光掩模缺陷檢測設備的不斷迭代升級，為蘇大維格培育新的利潤增長點。