說起咱們中國的芯片產業,中芯國際絕對是個扛把子。很多人都在盼著,啥時候中芯能把臺積電給超了,成為全球芯片代工的老大?這樣咱們就不用擔心被卡脖子,不用怕那些禁令了。
說實話,有這想法挺好,有信心也是好事。但我得潑盆冷水——這事兒沒那么簡單。
關鍵在哪?就在EUV光刻機上。
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可能有人要問了,EUV是啥玩意兒?簡單說,就是造高端芯片必須用的一種設備,全名叫極紫外光刻機。現在市面上能造5nm、3nm甚至2nm芯片的,都離不開它。
有人說,那用原來的浸潤式DUV光刻機不行嗎?理論上能造,但實際上沒人這么干。為啥?良品率太低,成本太高,根本沒法大規模生產。就像你非要用自行車去拉貨,能拉是能拉,但效率和成本都不劃算。
看看臺積電2025年第四季度的收入就明白了——3nm工藝占了28%,5nm占了35%,7nm占了14%。光是5nm以下的芯片,就占了總收入的六成多。而這些,全都離不開EUV光刻機。
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中芯國際現在的處境,就像一個想考清華的學生,課本都不全。沒有EUV光刻機,就算技術再牛,也做不了高端芯片。
有人可能會說,那咱們自己研發啊!這話沒錯,但EUV光刻機號稱"人類工業皇冠上的明珠",全球只有荷蘭的ASML能造,一臺機器十幾萬個零件,技術難度可想而知。不是一朝一夕能攻克的。
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所以啊,咱們盼著中芯國際追上臺積電,這個愿望沒錯。但要實現這個目標,前提是國產EUV光刻機必須得突破。沒有這個基礎,一切都是空談。
這不是潑冷水,是認清現實。只有把最基礎的設備問題解決了,咱們的芯片產業才能真正站直腰桿。不然,再好的愿望也只能是愿望。
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