EUV光刻機(jī)三大核心，有一項(xiàng)最易攻克，也有一項(xiàng)最難攻克！

導(dǎo)讀：EUV光刻機(jī)三大核心，有一項(xiàng)最易攻克，也有一項(xiàng)最難攻克！

當(dāng)前，全球僅有一家企業(yè)掌握EUV光刻機(jī)制造技術(shù)，即ASML公司。然而，ASML的EUV光刻機(jī)不會(huì)售予中國(guó)，這其中既有歐洲方面的限制因素，更有美國(guó)從中作梗。

盡管不少人認(rèn)為浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)也能夠用于制造5nm甚至3nm芯片，但實(shí)際上該技術(shù)存在諸多弊端。其良品率過(guò)低、成本過(guò)高、生產(chǎn)效率低下，且技術(shù)難度極大，從綜合效益來(lái)看，并不具備經(jīng)濟(jì)性。因此，若要制造5nm及以下制程的芯片，EUV光刻機(jī)是更為理想的選擇。鑒于此，我國(guó)開(kāi)展EUV光刻機(jī)的研發(fā)工作是勢(shì)在必行、無(wú)法回避的。

光刻機(jī)有三大核心系統(tǒng)，分別為EUV光源系統(tǒng)、投影物鏡系統(tǒng)以及雙工作臺(tái)系統(tǒng)。由此便引出一個(gè)關(guān)鍵問(wèn)題：在這三大核心系統(tǒng)中，哪一項(xiàng)是我國(guó)最容易攻克的，而哪一項(xiàng)又是最難攻克的呢？

先給出結(jié)論，相對(duì)而言，最容易攻克的應(yīng)當(dāng)是雙工作臺(tái)系統(tǒng)；而最難攻克的并非EUV光源系統(tǒng)，實(shí)則是投影物鏡系統(tǒng)。好的，我將按照您的要求進(jìn)行續(xù)寫(xiě)。以下是續(xù)寫(xiě)內(nèi)容：

在三大核心系統(tǒng)中，雙工作臺(tái)系統(tǒng)的技術(shù)門(mén)檻相對(duì)較低。該系統(tǒng)主要解決晶圓與掩模的同步運(yùn)動(dòng)問(wèn)題，核心在于精密機(jī)械控制與定位算法。我國(guó)在數(shù)控機(jī)床和高精度運(yùn)動(dòng)控制領(lǐng)域已有深厚積累，華卓精科等企業(yè)研發(fā)的雙工作臺(tái)已實(shí)現(xiàn)納米級(jí)定位精度。雖然ASML采用磁懸浮技術(shù)實(shí)現(xiàn)驚人加速度，但通過(guò)氣浮平臺(tái)+先進(jìn)控制算法的組合，國(guó)產(chǎn)方案完全可能達(dá)到相近性能。值得注意的是，該系統(tǒng)還涉及實(shí)時(shí)量測(cè)反饋技術(shù)，這正是我國(guó)量子測(cè)量技術(shù)的優(yōu)勢(shì)領(lǐng)域。

EUV光源系統(tǒng)雖被普遍視為最大難點(diǎn)，但實(shí)際存在技術(shù)突破口。上海光機(jī)所研發(fā)的二氧化碳激光等離子體光源已實(shí)現(xiàn)50瓦功率輸出，雖距ASML的250瓦尚有差距，但通過(guò)優(yōu)化靶材配方（如錫合金微滴）和激光頻率，功率提升路徑明確。更關(guān)鍵的是，我國(guó)在"極紫外光刻光源"國(guó)家重大專項(xiàng)支持下，已建成完整的光源測(cè)試驗(yàn)證平臺(tái)，這種全鏈條研發(fā)能力比單純功率指標(biāo)更具戰(zhàn)略意義。

真正的"卡脖子"環(huán)節(jié)在于投影物鏡系統(tǒng)。這個(gè)由6組非球面鏡組成的系統(tǒng)，要求表面粗糙度達(dá)到原子級(jí)（0.1納米以下），且需在多層膜反射鏡上實(shí)現(xiàn)70%以上的反射率。德國(guó)蔡司為此開(kāi)發(fā)了離子束拋光補(bǔ)償技術(shù)，其工藝訣竅（Know-how）積累超三十年。更嚴(yán)峻的是，物鏡系統(tǒng)需要整套計(jì)算光刻軟件支撐，從光學(xué)設(shè)計(jì)、熱變形補(bǔ)償?shù)较癫钚Ｕ?，ASML每年投入超20億歐元維護(hù)的算法數(shù)據(jù)庫(kù)才是核心競(jìng)爭(zhēng)力。我國(guó)雖在長(zhǎng)春光機(jī)所布局了物鏡研發(fā)，但在確定性拋光、原位檢測(cè)等關(guān)鍵工藝上仍落后兩代以上。

值得深思的是，EUV研發(fā)不能簡(jiǎn)單套用"兩彈一星"模式。光刻機(jī)本質(zhì)是商業(yè)產(chǎn)品，需要構(gòu)建包含蔡司（光學(xué)）、通快（激光）、Imec（工藝）在內(nèi)的產(chǎn)業(yè)生態(tài)。我國(guó)正通過(guò)"02專項(xiàng)"打造協(xié)同創(chuàng)新網(wǎng)絡(luò)，如北京科益虹源的激光器與上海微電子的整機(jī)集成已形成聯(lián)動(dòng)。未來(lái)突破路徑可能是：先實(shí)現(xiàn)雙工作臺(tái)國(guó)產(chǎn)替代，再以光源系統(tǒng)為杠桿撬動(dòng)國(guó)際合作，最終通過(guò)產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合攻關(guān)攻克物鏡系統(tǒng)。這條征途注定漫長(zhǎng)，但每一次局部突破都在重塑全球半導(dǎo)體權(quán)力的地理版圖。