光刻機巨頭阿斯麥宣布重大進展

【文/觀察者網 柳白】芯片制造迎來重大突破？路透社2月26日引述荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）一位高管的話透露，該公司新一代芯片制造設備已準備就緒，可交付芯片制造商投入大規模使用，這對芯片行業而言是重大進展。

阿斯麥是全球唯一能生產商用極紫外（EUV）光刻機廠商，而EUV設備是芯片制造商不可或缺的關鍵裝備。

阿斯麥數據顯示，這款被稱為高數值孔徑極紫外光刻機（High-NA EUV）的新一代設備，可省去芯片制造中多個成本高昂、工藝復雜的步驟，幫助臺積電、英特爾等企業生產性能更強、能效更高的芯片，標志人工智能（AI）芯片生產迎來關鍵轉變。

阿斯麥首席技術官馬爾科·皮特斯向路透社表示，公司計劃26日在一場技術會議上公布新設備相關數據，這標志著一個關鍵里程碑。

據悉，阿斯麥耗時多年才研發出這款造價高昂的新一代設備，芯片廠商也一直在評估在何種階段將其用于大規模生產在經濟上才具備可行性。

但由于當前一代EUV設備在制造復雜AI芯片方面已逼近技術極限，新一代設備對AI行業至關重要。

阿斯麥生產的極紫外光刻機 阿斯麥官網

公開資料顯示，高數值孔徑EUV采用0.55數值孔徑光學系統，可實現8納米分辨率，支持3納米及以下制程工藝，并為1納米節點提供技術儲備。它能助力改進OpenAI的ChatGPT這樣的聊天機器人，并幫助芯片廠商按計劃推進AI芯片路線圖，以滿足不斷激增的市場需求。

不過需要注意的是，這種新設備售價約4億美元，幾乎是初代EUV設備的兩倍。

皮特斯表示，根據阿斯麥的數據，新一代設備停機時間已大幅減少，累計生產了50萬片餐盤大小的硅片，且能在芯片上刻畫出精度足夠的電路圖案。這三項指標共同表明，設備已具備量產條件。

“我認為，從設備已經歷的驗證周期數量來看，現在已到關鍵節點。”他談及客戶對這些機器進行的測試次數時說。

盡管技術已就緒，但企業仍需兩到三年時間完成充分測試與開發，才能將其整合進生產線。

“（芯片廠商）已掌握對這些設備進行認證的全部技術。”皮特斯說。

他補充道，目前這些設備正常運行率約80%，公司計劃在今年年底提升至90%。阿斯麥即將公布的成像數據足以讓客戶相信，可用一道高數值孔徑工序替代多道老一代設備工序。設備已加工了50萬片晶圓，讓公司得以解決大量技術難題。

隨著全球芯片市場加大產能以滿足AI和數據中心需求，阿斯麥的訂單數量超出預期，對芯片制造設備的需求也在增長。2025年第四季度新增訂單躍升至創紀錄的132億歐元，其中超過一半是EUV光刻機，遠超市場預期。

作為全球最大芯片制造設備買家的中國，依然是阿斯麥最主要的客戶，占到該公司2025年銷售額的33%，是阿斯麥最大的單一市場。但在美國的出口限制措施影響下，阿斯麥預計，2026年中國占銷售額的比例將降至20%。

面對光刻技術瓶頸，中國企業正在努力攻關，以實現自給自足。香港英文媒體《南華早報》注意到，中國本土企業現在致力于自行研制DUV和EUV光刻機，旨在保障中國半導體供應鏈并突破美國的限制。

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