領先中國30年！沒日本光刻膠，ASML光刻機就是廢鐵？真相太扎心了

“日本光刻膠領先中國30年”

“沒它ASML的光刻機就是廢鐵”......

近期，這樣的說法在網絡上廣泛流傳。但真相是什么？真的有這么大差距嗎？

首先要明確一個核心事實，雖然光刻膠的名字里帶有“膠”這個字，但它可不是普通“膠水”。在工業制造領域，它被稱之為為“芯片制造的靈魂”。什么意思？其核心作用的是，將芯片的電路圖通過光刻技術“印”在晶圓上，其重要性不言而喻了。如果把光刻機比喻成“刀”的話，那么光刻膠就是“雕花的基底”，其純度、配方、穩定性，直接決定了芯片的制程精度和良率，所以別看它只是一個“膠”，但技術門檻極高。

客觀而言，日本在高端光刻膠領域的優勢，確實達到了全球領先水平。目前，全球高端EUV光刻膠市場，日本企業占據了超過90%的份額，信越化學、JSR、東京電子等巨頭，幾乎壟斷了全球市場，無論是臺積電、三星，還是英特爾，高端芯片制造所需的EUV光刻膠，都高度依賴日本供應。臺積電之所以選擇在日本熊本建廠，就是想要更靠近日本光刻膠等核心材料供應鏈，這是很重要的一個原因。

而日本的優勢，并非一蹴而就，而是數十年深耕的結果。從上世紀80年代開始，日本就全力布局光刻膠領域，幾代工程師深耕分子排列、配方優化，積累了大量的隱性知識。這種知識無法通過砸錢買設備獲得，也無法短期復制，相當于日本企業的“祖傳秘方”。

更關鍵的是，高端光刻膠的技術門檻極高，保質期極短，僅3-6個月，對物流、儲存、供應鏈的穩定性要求極高，這也進一步鞏固了日本的優勢。日本企業憑借完善的供應鏈體系，能夠快速將產品送達全球客戶手中，而其他國家想要突破，不僅要攻克技術難關，還要搭建成熟的供應鏈體系，難度極大。

但要說“日本光刻膠領先中國30年”，還是有點夸張了，在高端光刻膠領域，中日之間確實存在差距，但這種差距，主要體現在配方優化、純度控制、穩定性等方面，而非核心技術的代差。中國目前已經掌握了中低端光刻膠的核心技術，正在全力攻關高端領域。

中國的發展思路也非常清晰——先拿下中低端市場，養活產業鏈、積累技術和人才，再逐步向高端EUV光刻膠領域突破，這種“循序漸進”的方式，符合科技發展的客觀規律。

光刻膠領域的競爭，是一場沒有硝煙的持久戰，沒有捷徑可走。我們既要正視差距，也要看到自身的進步和潛力。畢竟，全球科技產業的發展，從來都是在差距中追趕、在競爭中進步，中國光刻膠的突圍之路，雖然漫長，但未來可期。