讓光刻機“變成廢鐵”，日本對華下狠手，外媒：比美國還狠

導讀：讓光刻機“變成廢鐵”，日本對華下狠手，外媒：比美國還狠

在全球科技競爭的激烈舞臺上，半導體產業無疑是最為核心且關鍵的領域之一，它猶如現代工業的“心臟”，驅動著各個行業的創新與發展。近年來，美國出于自身霸權考量，對中國半導體產業展開了一系列封鎖行動，而日本，這個曾經在半導體領域風光無限的國家，也緊隨美國之后，對中國半導體產業下起了狠手，其手段之“絕”，甚至有過之而無不及。

美國對中國的半導體封鎖，更多聚焦于“增量”部分。他們拒絕向中國出售最先進的EUV光刻機，封鎖高端設計軟件，試圖阻止中國獲取最尖端的設備和技術。這種封鎖雖然嚴厲，但從某種程度上也為中國指明了方向，讓我們清晰地認識到哪些關鍵技術必須依靠自身力量去攻克。然而，日本的做法卻截然不同，其瞄準的是中國的“存量”產業，妄圖直接掐住中國現有半導體產業鏈的咽喉。

日本將中國28個實體列入管制范圍，還試圖停止高端光刻膠的出口。28納米及以上成熟制程對于中國的汽車、電子、工業制造等眾多領域至關重要，日本此舉無疑是想讓中國已經建好的生產線逐漸陷入停滯，甚至走向報廢。而光刻膠在芯片制造成本中占比約12%，是芯片制造不可或缺的關鍵材料。日本企業憑借著長期的技術積累和市場壟斷，幾乎掌控了全球光刻膠供應，總體產能超過90%，7納米以下的EUV光刻膠更是完全被其捏在手里。在這種關鍵材料上被卡脖子，日本自認為有了肆無忌憚對中國進行封鎖的底氣。

但日本低估了中國企業的韌性和創新能力。面對日本的封鎖，中國企業沒有被壓垮，反而激發出了強大的“求生模式”，在逆境中奮勇前行，闖出了一條屬于自己的發展道路。

在光刻機領域，中國企業自主研發的28納米浸沒式DUV光刻機取得了重大突破，進度比預期還要快，如今已經達到量產水平。這一成果的取得，標志著中國在光刻機這一關鍵設備上實現了重大跨越，不再完全依賴進口，為中國的半導體產業發展奠定了堅實基礎。

而在光刻膠方面，國內企業同樣迎頭趕上。以南大光電為代表的企業，展現出了驚人的創新速度和實力。過去，光刻膠的工藝驗證往往需要三五年時間，但南大光電硬是將這一過程壓縮到了一年半。而且，其研發出的光刻膠關鍵指標完全不輸日本產品，成功打破了日本企業在光刻膠領域的長期壟斷。

日本的封鎖不僅沒有達到其預期目的，反而讓自己陷入了困境，自食苦果。禁令實施后，日本企業的訂單直線下滑。2024年財報顯示，尼康的半導體設備業務收入下跌了18%，東京威力科創對華銷售額更是下滑了22%。曾經憑借技術壟斷在中國市場賺得盆滿缽滿的日本企業，如今卻因為自己的短視和霸權行徑，失去了大量市場份額，遭受了巨大的經濟損失。

中國半導體產業的逆襲，不僅僅是在技術和市場層面的勝利，更是一種精神層面的崛起。它向世界證明，中國企業在面對外部壓力和封鎖時，有能力、有決心通過自主創新實現突破和發展。這種精神將激勵更多的中國企業投身于科技創新的浪潮中，不斷攻克一個又一個技術難題，推動中國科技產業向更高水平邁進。

展望未來，中國半導體產業仍然面臨著諸多挑戰和困難，但我們有理由相信，在大力支持下，在眾多企業的共同努力下，中國半導體產業必將繼續保持快速發展的勢頭，不斷提升自身的核心競爭力。我們將在全球半導體產業格局中占據更加重要的地位，為實現科技強國夢貢獻自己的力量。而日本，若繼續沉迷于技術封鎖和霸權思維，終將被時代所淘汰，失去在半導體領域的輝煌。