日本又吹牛了，說制造出了1.4nm芯片用的“光刻機”

在整個芯片產(chǎn)業(yè)里面，沒有什么設(shè)備比光刻機更讓人牽動神經(jīng)了。為什么？因為和國際上最頂尖的水平相比，我們在光刻機技術(shù)上確實落后太多了。如果拿我們和ASML來比，差距少說也有十年。

前不久，ASML的CEO公開說，他們賣給中國的光刻機，其實技術(shù)水平相當(dāng)于他們自己在2014年左右的，落后了八代。即便只是這種“老舊”的光刻機，都比我們本土生產(chǎn)的要強。

對先進技術(shù)的渴望與期待

光刻機是制造芯片必不可少的核心設(shè)備。ASML在高端光刻機上的壟斷，對我們的芯片制造水平造成了嚴重的限制。尤其是EUV光刻機，它能用來制造7納米以下的最先進芯片，而ASML是被禁止將這款設(shè)備賣給我們的。

正是在這種背景下，大家對國產(chǎn)光刻機的突破，特別是EUV光刻機的突破，有著強烈的期待。所以，一旦市場上出現(xiàn)任何聲稱能突破EUV光刻機，或者能繞開EUV制造5納米甚至更先進芯片的技術(shù)，都能立刻引起巨大的關(guān)注和興奮。

日本“1.4納米”納米壓印機的消息

最近，有媒體報道說，一家叫DNP（日本印刷株式會社）的日本企業(yè)宣布，他們研發(fā)出了一種線寬為10納米的NIL納米壓印機。報道進一步解釋說，10納米的線寬，相當(dāng)于1.4納米級別的邏輯芯片。

這個消息一出來，網(wǎng)上立刻就熱鬧了。大家都在討論日本的技術(shù)為什么這么厲害，我們的差距是不是又大了，以及日本的這種“光刻機”技術(shù)有沒有可能賣給我們等等。

納米壓印：不是EUV的替代品

其實，日本企業(yè)研發(fā)出這樣的NIL納米壓印技術(shù)，倒也不是不可能。畢竟在這之前，佳能也曾公開過類似的技術(shù)，聲稱能制造5納米甚至3納米芯片的NIL納米壓印機。

但是，如果因此就認為這種技術(shù)能夠制造1.4納米芯片，甚至能取代EUV光刻機，那就想得太多了。納米壓印（NIL）和EUV走的是完全不同的技術(shù)路線。

簡單來說，NIL納米壓印的技術(shù)原理，很像蓋章。它首先需要雕刻一個母板，把芯片的電路圖刻在上面。然后，再把這個母板直接壓到硅晶圓上，把電路圖像蓋章一樣“印”上去，這就是它名字中“納米壓印”的由來。

納米壓印的局限性

納米壓印的技術(shù)缺陷是很明顯的。

首先，母板和芯片的比例是1:1的，而且在實際印刷的過程中，損耗非常大。一個母板可能壓個50次左右就磨損報廢了，必須重新制造一個新的母板。這種高損耗導(dǎo)致它無法制造高精度的、復(fù)雜的邏輯芯片。它最多可能用在NAND、DRAM這樣的存儲芯片制造上。

其次，納米壓印的效率非常低，和EUV光刻機相比，完全不在一個級別上。

而EUV光刻機在制造掩模板時，不需要做到1:1那么精細，通常只需要制造4:1比例的，因為光線照射時可以放大。更重要的是，EUV光刻機的光線照射不會直接接觸掩模板，一塊掩模板可以用上幾千次才需要報廢。

納米壓印真正的用處

所以，納米壓印在技術(shù)原理和效率上，不可能取代EUV光刻機。所謂的“1.4納米納米壓印機”，可能更多的是宣傳上的說法，可能不是廠商夸大，就是媒體在解讀時吹大了。

納米壓印技術(shù)真正的用武之地，其實是在實驗室或者小批量制造。如果是一些先進芯片需要制造，但又不需要搞一條成本極高、產(chǎn)量巨大的EUV生產(chǎn)線，用納米壓印就是一個成本低、精度還過得去的選擇。

我們看看DNP自己對這個業(yè)務(wù)的營收預(yù)期就知道了。他們定下的目標(biāo)是，力爭在2030財年，將納米壓印相關(guān)業(yè)務(wù)的營收提升到40億日元，換算過來大約是1.8億元人民幣。

大家想想，1.8億人民幣的收入，就能號稱替代EUV、制造1.4納米芯片嗎？要知道，一臺好一點的DUV光刻機，都要幾億人民幣。

所以，對于這種能繞開EUV的“黑科技”消息，大家看看就好。真正要實現(xiàn)大規(guī)模、高效率的先進芯片制造，老老實實地研發(fā)和突破EUV光刻技術(shù)，才是最靠譜的方案。