ASML CEO：我們賣給中國的光刻機，都是落后10年以上的

最近，ASML的CEO富凱接受了一次采訪。在談到向中國出口光刻機時，他說了一段挺實在的話。

他提到，現在賣給中國的光刻機，比他們最新的技術落后了整整8代。從技術水平上講，大概只相當于他們2013年、2014年賣給其他西方國家的水平。算下來，技術差距超過了10年。

這話一出，確實讓不少人覺得意外。

因為之前很多人的印象里，覺得主要是EUV那種最頂尖的光刻機不賣給中國。

而對于其他類型，比如浸潤式DUV光刻機，大家感覺好像買起來沒什么大問題，限制不大。現在才知道，原來不是那么回事。

即便是DUV光刻機，里面也分很多型號，有代次高低。而且，這個代差竟有十年之多。一直只把十年前的設備銷往中國市場，這個情況確實讓不少人心里不是滋味。

光刻機先不先進，其實不只是看光源這一項。數值孔徑也是很關鍵的指標。簡單說，在同樣光源條件下，數值孔徑越大，光刻機的分辨率就越高，能制造的芯片工藝也越精細。就像EUV光刻機，雖然都用13.5納米的光，但數值孔徑不同，技術代次就不同，現在已經發展到第三代了。

浸潤式DUV光刻機也一樣，這些年也更新了好多代，分辨率不同，能做的芯片制程也不同。但ASML長期供應給中國的，是比較老的型號，更新的型號一直沒有開放銷售。

這個事實讓人看清了一點：我們自己國產的光刻機，目前的技術水平距離ASML確實還有很長的路要走。別人拿出十年前的舊型號，性能可能仍然領先于我們自研的最新設備。這個差距，是實實在在擺在那里的。

關于技術出口限制，富凱在采訪中也表達了他的看法。他覺得，不能一味地封鎖。中國是一個有14億人口的大國，必然會追求技術進步，不會甘心一直被“卡脖子”。如果封鎖得太徹底，反而會迫使中國加快自主研發的步伐，最終自己突破技術。

所以他認為，在對中國出口光刻機這件事上，應該找一個“微妙的平衡點”。

這個“平衡點”是什么意思呢？他其實解釋得挺直白。說白了，就是一套基于商業和技術管控的組合策略：賣給中國的光刻機，不能太先進。這樣一來，可以在一定程度上延緩中國相關技術的進步速度。

但同時，也不能給得太落后。最好還是比中國自己目前能造出來的設備，稍微先進那么一點。這樣的話，中國從實用和效率角度考慮，就還是會選擇購買ASML的產品，從而在一定程度上維持對西方技術的依賴。

這個思路，其實和黃仁勛、比爾·蓋茨等人過去表達過的觀點有點像。核心就是：不給你最好的，但給你比你現有的好一點的。這樣既能壓制你自主研發的急迫性和市場空間，又能把自己的產品賣出去，維持商業利益和市場影響力。在他們看來，這或許是一個“最優解”。

從這件事里，我們能看明白一個很現實的道理：技術上的落后，往往會讓自己處于被動的位置。如果我們自己能造出先進的光刻機，ASML的銷售策略恐怕不會是今天這樣。很多時候，對方能這樣做，恰恰是因為我們暫時還沒有。

這件事談不上多么戲劇化的故事，它更像是一面鏡子，照出了一個我們在許多高科技領域必須面對的、長期而具體的現實。差距是客觀存在的，認識差距是第一步。而如何一步步縮小差距，走出屬于自己的路，則是更漫長、也更需要靜下心來面對的功課。