臺積電泄密風波：人才流動與信任危機

2025年11月25日，臺積電發布聲明，正式向中國臺灣地區智慧財產及商業法院起訴其前資深副總經理羅唯仁，指控其退休后入職英特爾過程中涉嫌泄露公司2納米、1.4納米等先進制程機密。

此次事件需追溯至今年7月底，彼時，75歲的羅唯仁從臺積電正式退休，這位被業界稱為“半導體界大牛”的資深工程師，在臺積電的任職歷程中，碩果累累：他曾主導臺積電10納米制程攻關，推動EUV光刻技術落地，領導團隊為臺積電拿下超1500項專利。他因貢獻突出被臺積電破例延長退休年齡至75歲（通常為67歲）。

然而三個月后，媒體披露他已出任英特爾研發副總裁，直接主管良率提升這一關鍵環節，更有消息稱其離職時帶走20余箱涉及先進制程的資料。

對臺積電而言，這場訴訟不僅是追討損失，更是一場技術保衛戰。半導體先進制程的研發需要投入巨大的財力和人力，2納米制程涉及GAA晶體管設計、背面供電等核心技術，其中僅良率優化數據就需數年實踐積累。

此外，羅唯仁以‘不帶電腦、只記手寫筆記’聞名，其筆記包含設備調試訣竅、故障排查經驗等隱性知識，難以通過數字監控追蹤。業內評估，這些經驗可助英特爾縮短1-2年研發周期，直接沖擊臺積電2027-2028年的技術領先窗口。

英特爾的應對則凸顯“防御性表態+程序性配合”的策略。其CEO陳立武在事件發酵后迅速否認指控，他向彭博新聞澄清：“這純屬謠言和猜測。根本不存在這種事。我們尊重知識產權。”

從行業慣例看，英特爾大概率會采取“配合調查但否認侵權”的姿態，一方面不會直接卷入人才糾紛的漩渦，另一方面可通過司法程序拖延時間，為自身研發爭取空間。

值得注意的是，羅唯仁的美國籍身份可能成為關鍵變量，臺積電的跨司法轄區追責面臨挑戰，而英特爾作為美國本土半導體核心企業，可能借助地緣因素弱化追責力度。

這場風波并非孤例，而是高科技行業人才流動與保密矛盾的集中爆發。近年類似案件頻發：2023年三星前存儲部門高管入職SK海力士后，因涉嫌泄露3D NAND技術被判賠償800億韓元；2025年7月，也是臺積電，有臺積電員工拍攝了多達700張2納米制程核心資料照片，包括關鍵工藝圖和生產細節，后跳槽至日本半導體設備巨頭TEL，而TEL是日本芯片“國家隊”Rapidus的重要伙伴和股東。

這些案例共同指向一個核心難題：如何平衡人才流動的行業常態與商業秘密的剛性保護。半導體行業的特殊性更放大了這一矛盾——核心技術迭代快、隱性知識占比高，而競業限制協議常因地域差異、身份特殊等因素難以執行。羅唯仁事件中，臺積電雖與高管簽署18個月競業禁止協議，但因對方美國籍身份未能有效約束，這暴露了跨國企業保密協議的結構性缺陷。

從司法結果預判，此案大概率會以“部分賠償+技術使用限制”達成和解。一方面，商業秘密侵權的舉證難度極大，尤其是隱性知識的界定缺乏明確標準，臺積電難以完全證明“資料已被使用”；另一方面，兩大巨頭均需避免長期訴訟的損耗，臺積電需快速終結技術泄露風險，英特爾則不愿因訴訟拖累制程研發。

和解可能包含三個核心條款：羅唯仁退出英特爾核心研發崗位、英特爾支付一定數額賠償金、承諾未來3-5年內不使用涉案技術路線。知名分析師陸行之就表示，因為陳立武曾經夸口不會侵害臺積電的知識產權，所以羅唯仁將很大可能會被切割而無法就職。

更深層看，這場糾紛折射出全球半導體產業的信任危機。在技術迭代加速與地緣競爭加劇的背景下，企業間的技術壁壘日益固化，人才流動從“行業活力源泉”變為“技術轉移載體”。臺積電與英特爾的博弈不僅關乎兩家企業的命運，更影響全球半導體產業鏈的技術生態。若“以人才流動獲取技術”成為潛規則，將動搖研發投入的動力基礎。當頂尖人才的職業選擇可能引發十億級技術損失時，整個行業就需要重新定義'競爭'與'合規'的邊界。

目前，中國臺灣地區智慧財產及商業法院已受理此案，證據交換階段預計將持續3-6個月。無論最終判決如何，這場風波已為高科技企業敲響警鐘：在追求技術突破的同時，建立適配全球化人才流動的保密體系，或許比單一技術突破更具長遠價值。