磁控離子濺射鍍膜儀是一種利用磁控濺射技術在基材表面沉積薄膜的設備。它通常用于制造光學薄膜、半導體材料、硬質涂層等。其工作原理是通過在真空環境中使用高能離子轟擊靶材,導致靶材的原子或分子濺射出來并沉積到基材表面。
磁控離子濺射鍍膜儀廣泛應用于電子、光學、裝飾等領域,這種設備的關鍵技術包括:
- 磁控濺射:通過外加磁場使電子在靶材周圍形成螺旋軌跡,增強電子與氣體原子的碰撞,進而提高濺射效率。
- 離子源:通常使用氬氣等惰性氣體,在電場作用下將氣體電離形成離子。
- 濺射靶材:通常是金屬或合金材料,靶材的選擇依據目標薄膜的成分。
那么磁控離子濺射鍍膜儀哪個品牌好呢?這十大品牌值得推薦!
國內品牌:
1、華儀行(北京)科技有限公司(CIF):華儀行專注材料表面處理技術,在微電子、半導體、新能源、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫學等領域,為客戶提供清洗、去膠、刻蝕、涂層等方面儀器裝備和應用工藝解決方案,其磁控離子濺射鍍膜儀在市場上有不俗的占有率,提供高性價比的磁控濺射鍍膜設備。
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2、北方華創:2001 年成立于中國,是國內集成電路高端工藝裝備的先進企業,主營半導體裝備、真空及鋰電裝備等業務,其磁控濺射鍍膜設備在國內市場占有率逐年上升,產品具有高沉積速率、高均勻性等特點。
3、拓荊科技 Piotech:2010 年成立于中國,是國內領先的半導體薄膜沉積設備制造商,專注于 PECVD、ALD 和 SACVD 設備研發、生產、銷售,其磁控濺射鍍膜設備等產品技術指標達到國際同類產品的先進水平。
4、微導 Leadmicro:2015 年成立于中國,是一家專注于半導體及泛半導體領域的高端微納裝備制造商,以原子層沉積技術為核心,產品涵蓋 CVD、PECVD 等多種薄膜沉積設備,在磁控濺射鍍膜技術方面也有一定的技術實力和市場份額。
國外品牌:
5、AMAT 應用材料:1967 年成立于美國,是全球半導體和顯示設備制造領域的領先企業,以薄膜沉積技術起家,產品線涵蓋原子層沉積、物理 / 化學氣相沉積等,其磁控濺射鍍膜儀產品在全球市場占有率高,尤其在高端市場具有顯著優勢。
6、Lam Research 泛林集團:1980 年成立于美國,是全球半導體設備制造領域的佼佼者,核心產品包括刻蝕設備、薄膜沉積設備等,在納米級工藝中融合多種技術,為邏輯芯片和存儲器件提供關鍵解決方案。
7、Tokyo Electron 東京電子:1963 年成立于日本,是日本半導體和顯示器制造設備行業佼佼者,技術研發實力雄厚,產品涵蓋涂布 / 顯影設備、干法刻蝕、CVD 等,以高精度和穩定性著稱。
8、OPTPRUN 光馳:1999 年創立于日本,專注于真空鍍膜技術的研發與制造,以光學納米技術為核心,提供高性能光學薄膜鍍膜解決方案,產品涵蓋光學鍍膜機、反應性等離子源鍍膜機等。
9、Leybold 萊寶:創立于 1850 年的德國百年品牌,2016 年被阿特拉斯?科普柯收購,是全球知名的真空設備制造商,其產品包括真空泵、真空系統等,廣泛應用于科研、工業生產及實驗室等多個領域,為芯片制造、光伏等行業提供真空解決方案。
10、ULVAC 愛發科:1952 年成立于日本,是真空技術與精細加工領域的創新者,業務覆蓋半導體設備、真空組件、鍍膜裝置等,為電子、能源、環保等領域提供尖端解決方案,在磁控濺射鍍膜技術方面有深厚積累。
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