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ASML
曾幾何時,不少人還對ASML抱有幻想。認為中國作為目前全球最大的芯片需求地區,以及2022年國產芯片3241.9億顆的巨大產量加持之下,ASML或許將“反抗”美國所提出的“美日荷芯片三方協議”。
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ASML在6月30日公布出口管制規定
但美夢總有破碎的一天,6月30日荷蘭正式公布了出口管制細節,限制的技術包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統;用于金屬剝離的原子層沉積(ALD)設備;設計用于硅、碳摻雜硅、硅鍺(SiGe)或碳摻雜SiGe外延生長的設備等。
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ASML旗下光刻機
其后ASML則公布了光刻機領域的管制細則,TWINSCAN NXT:2000i及后續推出的浸潤式光刻系統必須取得許可證才可以進行銷售。低端的TWINSCAN NXT:1980i則不在管制名單之中。
TWINSCAN NXT:1980i的分辨率為38nm,只有通過多重曝光技術的支持才能實現28nm和14nm制程的芯片工藝。但多重曝光技術也會顯著增加制造成本,同時在良品率以及技術指標上也將大幅落后一次曝光技術所生產出來的晶圓。
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TWINSCAN NXT:1980i光刻機
ASML為什么做出“網開一面”的選擇呢?一方面是ASML出于自身利益的考慮,作為全球最大的光刻機生產廠商,ASML在光刻機領域幾乎沒有對手,因此也成為包括國內芯片廠商在內的唯一選擇。ASML故意留下低端光刻機這一選項,也讓國內半導體廠商無法拒絕,即使是低端機型、哪怕生產成本會顯著上升,也只能繼續購買。
另一方面則是ASML想要進行技術領域的“卡位”。一旦ASML停止銷售所有類型的光刻機,那么在無法購入和使用之下,也會間接推動國產光刻機廠商加速突破。如今ASLM選擇繼續銷售TWINSCAN NXT:1980i這種分辨率為38nm級別的低端光刻機也讓國產光刻機處于一個尷尬境地——投入大量研發制造出來的國產光刻機將直面ASML的競爭壓力,同時一旦國產光刻機取得進一步的突破,那么ASML可能解禁更為先進的TWINSCAN NXT:2000i型號,從而一直壓制國產光刻機。
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日本宣布23項出口管制
再加上此前美國和日本已經先后宣布出口管制的相關細節,再加上如今最后一方荷蘭的聲明,美日荷三方芯片協議也開始試圖從半導體產業鏈上中下游形成“合圍”。日本在半導體領域對23種材料和設備進行管制,荷蘭對高端光刻機進行出口管制,美國則對包括人工智能在內的高端芯片進行管制。
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美國將對人工智能芯片實施出口管制
此時國產芯片的發展也到了一個關鍵的分水嶺,不可否認此前借助ASML等外國廠商的幫助,國產半導體產業也取得了快速的發展,2022年芯片產量達到3241.9億顆就是證明。但是隨著美日荷芯片三方協議達成,對于光刻機等設備的封鎖也在愈發嚴苛,在這個大前提下“造不如買”的錯誤思想也應該清醒了。核心技術只有控制在自己手中才是安全可靠的,否則一旦出現“斷供”的情況,此前幾十年的努力也將面臨一朝散盡。
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國產芯片
但“亡羊補牢為時未晚”,國產光刻機已經突破了90nm,28nm也處于驗證之中。國產蝕刻機已經做到了3nm級別,離子注入機也實現了28nm全流程可控。雖然整體依然處于落后的位置,但是在全球最大芯片市場的加持之下,國產化的芯片設備已經可以看到一絲打破封鎖的曙光。
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科技崛起
就像我們在高鐵、大飛機、盾構機、特高壓設備等領域從落后到領先最終在全球市場上取得優勢一樣。芯片雖然是高科技的產物,但依然是一種商品,依賴于市場需求。如今我們擁有全球最大芯片市場,如果能夠將市場轉化為技術,那么也將徹底打破半導體長期落后的現狀,從而實現科技產業的偉大復興。
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