他是光刻機技術領域的華裔專家，但是從來不跟中國大陸有任何來往

上世紀80年代，IBM研究中心開了一場內部會議。做X光光刻技術的團隊十幾個人坐一邊，氣勢很足。另一邊，就一個人。這個人叫林本堅。

那天X光團隊出了點成果，老板特高興，給每人發了件T恤，上面印著＂X ray works＂——意思是＂X光有用＂。

林本堅也分到一件，他在后面加了幾個字，變成了＂X ray works — for the dentists＂，翻譯過來就是——＂X光有用，在牙科診所里＂。改完了他還用磁鐵把T恤貼在辦公桌后面的柜子上，路過的同事都能看見。

擱今天看，這事簡直是在找死。可后來的事證明了，深紫外線光刻扛起了半導體三十年的大梁，X光到現在也沒商用。

很多人知道荷蘭ASML壟斷了全球高端光刻機，知道一臺EUV光刻機賣好幾億美元，是芯片制造的命根子。可很少有人清楚，ASML能走到今天，背后站著一個華裔技術人。

行業里管他叫＂浸潤式光刻之父＂，他搞出來的那項發明，直接把全球半導體的技術路線給改寫了。可這個人，從沒跟中國大陸有過業務來往。他的故事，得從越南講起。

林本堅的父母早年住在香港，抗戰時逃到了越南。1942年，他出生在法屬越南的西貢堤岸，祖籍廣東潮安，是個華僑家庭的孩子。

他喜歡物理，也務實，考了臺灣大學電機系，從此跟電磁波打上了交道。1963年畢業去了美國，1970年在俄亥俄州立大學拿到電機工程博士學位。

讀博那陣子有個小插曲——教他物理的老師是楊振寧的弟弟楊振平，要求極嚴。林本堅在臺大念書從沒熬過夜，到了俄亥俄才發現不熬夜根本撐不下去。

博士畢業找工作，他最想去的地方是柯達，因為他愛攝影。結果柯達沒搭理他，IBM倒是先伸出了手。他一開始還納悶：IBM不是做電腦的嗎，招光學的人干啥？進去之后才明白，芯片制造里所有的小型化、微型化，全靠光學。

這一干，就是二十二年。

1975年，林本堅做出了當時光刻領域波長最短的光線，取名叫＂深紫外線＂，也就是后來大家常說的DUV。這個成果擱在今天看意義極大——DUV后來成了全球芯片制造的主流光源。可在那個年代，整個行業都押寶在X光上，覺得紫外線馬上就要到頭了。

林本堅是IBM最早用電腦模擬成像的人。所有人都信X光才是光刻的未來，他偏偏堅持紫外線能做到納米級別。有一回他做完報告，一個很厲害的物理學同事當場評價說：＂I heard a very good science fiction＂——我聽了一場很好的科幻小說。

客氣，但諷刺。林本堅沒吭聲，也沒縮回去。他一個人對面站著的，是一整條技術路線，以及背后幾個億的研發投入。他提過一個要求：給他X光組十分之一的經費就夠了。IBM沒答應，理由是＂這個別人也在做，我們不做別人在做的事＂。

在IBM待了二十二年，拿過十次杰出發明獎，給公司創造了好幾項世界第一。五十歲那年，他提前退休了。自己出來創業，公司名叫Linnovation——＂Lin＂加上＂Innovation＂，他姓林，又愛創新。他還打趣過，說就是為了這個名字才出來的。

不過命運給他安排了一個更大的舞臺。2000年，在蔣尚義的力邀之下，已經在美國待了三十八年的林本堅回到臺灣地區，進了臺積電，職位是資深處長。

他來得正是時候。那會兒全球半導體產業撞上了一堵墻——芯片制程縮到65納米的時候，摩爾定律不好使了。

幾乎所有人都把希望寄托在157納米波長的＂干式＂光刻上，全世界頭部廠商為這事砸了幾十億美元，愣是沒進展。從193納米縮到157納米，比例不到20%，根本達不到摩爾定律的要求。鏡片材料搞不定，光阻透明度也提不上去。整個產業卡住了。

就在這個節骨眼上，林本堅扔出了一顆炸彈：別再死磕縮短光源波長了，換個介質就行。

他搞出來的浸潤式微影技術，原理說起來不復雜——把鏡頭與晶圓之間的空氣，換成折射率更高的水。193納米光波在水里的等效波長能縮到134納米左右。說白了，就是在鏡頭與硅片中間加了一層水。

聽著簡單到有點兒取巧。可這個思路，恰恰推開了一扇所有人都忽略的大門。臺灣新竹交通大學校長張懋中后來說他：＂一個人站在一艘航母面前喊停。＂

反對聲幾乎要把他淹沒。全球砸在157納米干式技術上的錢早就超過了10億美元，光一家光刻機臺廠商就號稱投了7億多。這些企業覺得他在攪局。有設備大廠的高層直接寫信給臺積電，意思很明確——＂讓他別鬧了＂。

林本堅親自跑美國、日本、德國、荷蘭，一家一家拜訪行業龍頭。頭一站去了一家美國大廠，對方劈頭蓋臉一句話：＂我們永遠不會用你的技術。永遠不。＂

轉折發生在2003年。10月，林本堅團隊到荷蘭做技術交流，ASML展示了一片趕工做出來的成像——用浸潤式光刻機在光阻上打出來的圖案。那一刻，整個格局開始變了。

后面的事情就像開了快進。從第一代45納米芯片量產開始，40nm、32nm、28nm、20nm、16nm、14nm、10nm、7nm、5nm……全都靠浸潤式光刻技術制造。IEEE在2018年統計過，全世界至少80%的晶體管是用這項技術生產的。

ASML憑這個打敗了日本尼康，坐上了全球光刻機的頭把交椅。臺積電也靠著先進制程的優勢，成了晶圓代工領域絕對的老大。2015年林本堅從臺積電退休，張忠謀在歡送晚會上說了一句話：＂假如沒有你以及你建立的團隊，臺積電的光刻技術不會有今天。＂

退休之后林本堅也沒閑著。2021年，他去了臺灣清華大學半導體研究學院當首任院長，把心思花在了培養年輕一代上。他提了三個詞：專才、通才、活才。他說過一句很直的話：＂不能自己發現新技術，就永遠跟在別人后面跑。＂

那么問題來了——成就這么大的一位華裔科學家，為什么從沒跟中國大陸合作過？這事要分兩頭看。

其一，他的整個職業軌跡從越南到臺灣再到美國，最后回到臺灣地區。他在臺積電深耕十五年，整個技術體系、人脈網絡、合作生態全在那邊。要他中途跳到大陸來，現實層面的障礙不少。

其二，他在采訪中說得也很坦誠：＂大陸有很好的先天條件，有市場，有人才。可是你需要讓他們覺得半導體很重要。＂這話不是看不起誰，而是在說——光有錢、有人不夠，得從根上重視起來。

值得關注的是他2025年講的一番話，分量不輕。他說：＂我們一天到晚逼他、逼他，他沒有辦法，他非常努力去投資去發明，說不定出來一個東西把大家都完全嚇到，就像DeepSeek一樣。＂一位從未與大陸合作的技術前輩，公開講出這種話，這本身就代表了一種技術層面的認可。

他還特別指出，大陸不一定非得死磕7納米、5納米這些先進制程。完全可以換條路，用新材料、新架構，拿7納米的制程去實現5納米甚至更先進的功能。

事實也在往這個方向走。拿國內來說，以上海微電子為整機集成龍頭，國科精密、科益虹源、華卓精科做核心部件配套，產業鏈的雛形已經搭起來了。

上海微電子研發的28納米沉浸式DUV光刻機完成了頭部企業的驗證測試，良品率做到了90%，計劃2025年交付，2026年量產。在EUV方向上，與華為關聯的新凱來公司走了一條不同于ASML的LDP技術路線，試產定在2025年第三季度，目標2026年實現量產。

差距有沒有？當然有。ASML的首席財務官戴厚杰2025年在財報電話會上說得很明白：中國要造出一臺先進EUV光刻設備，還需要很多年。

2026年2月，ASML宣布新一代High-NA EUV光刻機已經準備就緒，可以交付給芯片廠投入大規模使用。技術競賽還在提速。

可差距從來不是固定不變的。十年前誰能想到中國能搞出自己的空間站？五年前誰能想到DeepSeek會讓全球AI圈震動？

中國半導體這條路，從來不是靠別人施舍走出來的。林本堅當年一個人對抗整個行業的膽量值得敬佩。而今天國內成千上萬的科研人員在光刻領域埋頭苦干的決心，同樣了不起。技術突破這件事，從來都屬于那些不信邪、不服輸、敢走自己路的人。