0.1nm直接光刻，又一家公司，想要掀翻ASML的EUV光刻機(jī)？

要說(shuō)現(xiàn)在芯片制造里頭誰(shuí)最牛，那肯定繞不開(kāi)EUV光刻機(jī)。

這玩意兒就像皇冠上的那顆寶石，但凡你想生產(chǎn)7nm以下的芯片，沒(méi)它還真不行。

關(guān)鍵是全世界能造出EUV光刻機(jī)的，就荷蘭ASML這一家，這就讓它穩(wěn)穩(wěn)坐在了整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的最頂端。

正因?yàn)橐患要?dú)大，全球不少企業(yè)都在琢磨著怎么繞開(kāi)它，甚至顛覆它。

像日本佳能搞的納米壓印技術(shù)，美國(guó)那邊的電子束光刻，歐洲的自生長(zhǎng)技術(shù)，還有俄羅斯折騰的X射線，路子各不相同，但目的都是一個(gè)——擺脫對(duì)EUV的依賴。

只不過(guò)到現(xiàn)在，這些技術(shù)大多還停留在“聽(tīng)起來(lái)很美”的階段，真要大規(guī)模商用，都還差著一口氣。

最近又冒出一家新公司，口氣不小，直接說(shuō)要挑戰(zhàn)ASML的地位。這家公司來(lái)自挪威，名字叫Lace Lithography。

它們搗鼓的技術(shù)叫“原子光刻”，說(shuō)白了就是不用EUV那種13.5nm波長(zhǎng)的光線，而是改用一種寬度只有0.1nm的氦原子束來(lái)干活。

0.1nm和13.5nm，這差距可不是一星半點(diǎn)。按照它們的說(shuō)法，原子束越細(xì)，分辨率就越高，直接用這技術(shù)就能造1nm以下的芯片，連多重曝光都省了。

更厲害的是，這套玩法還不需要傳統(tǒng)的掩模版和反射鏡，甚至連光刻膠都省了，直接在硅晶圓上“畫”出電路圖案。

Lace自己放話，說(shuō)這項(xiàng)技術(shù)比現(xiàn)在的EUV領(lǐng)先整整15年，成本更低、能耗也更省，要是真能成，整個(gè)芯片產(chǎn)業(yè)都能往前跨一大步。

公司還透露，他們已經(jīng)做出了原型機(jī)，計(jì)劃到2029年和晶圓廠合作進(jìn)行測(cè)試。為了這事兒，他們也融到了將近5000萬(wàn)美元的資金。

不過(guò)業(yè)內(nèi)不少人對(duì)這事兒不太看好。有人說(shuō)聽(tīng)著挺唬人，但用原子束直接做光刻，有個(gè)繞不過(guò)去的坎——產(chǎn)能。說(shuō)白了，這種玩法速度太慢，一次刻不了多少東西，用來(lái)做小批量、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的芯片或許還行，但要像EUV那樣大規(guī)模量產(chǎn)，恐怕很難頂上去。

其實(shí)不管這項(xiàng)技術(shù)最后能不能成，有人愿意在光刻機(jī)這條路上闖一闖，對(duì)行業(yè)來(lái)說(shuō)終究是件好事。畢竟ASML一家獨(dú)大的局面，不管對(duì)芯片廠還是對(duì)消費(fèi)者，都不是最理想的狀態(tài)。多幾條路子，多幾個(gè)選擇，哪怕最后走不通，也總比所有人都擠在一條道上強(qiáng)。