荷蘭專家直言：ASML光刻機可是花了40年，而中國企業卻要自己制造

文/編 阿Q

如下圖所示，光刻機巨人作者、荷蘭半導體專家馬克·海金克在一次采訪時表示，ASML花費40年鉆研光刻機，才到了今天的水平，而他們也遇見到了中國企業有理由來研發本土化的光刻機技術。

其實，這位荷蘭專家也表達出了另一層意思，放著現成的用就行了，非要自己從頭造，這不是自討苦吃嗎？

個人覺得，荷蘭半導體專家的這句話讓老牌半導體制造業霸主ASML第一次感受到了真正的挑戰。

從行業發展來看，能站上光刻機這個賽道的玩家，早年都是有深厚家底的。

美國是光刻技術的發源地，靠著軍工產業的需求率先實現商業化，GCA和珀金埃爾默憑先發優勢成了初代霸主；

日本隨后跟上，通產省牽頭整合資源，尼康佳能依托光學領域的積淀，聯合東芝等芯片企業協同研發，靠著精準的市場策略拿下了第二代霸主的位置；

而ASML從飛利浦的一個邊緣技術部門起步，聯合臺積電深耕技術，靠著晶圓臺對準技術和浸潤式技術的突破，用40年時間走到了行業頂端，2025年毛利率超50%、凈利96億歐元的成績，更是印證了其技術壁壘的牢固。

反觀中國的光刻機發展，起步階段還是在被《瓦森納協議》限制的情況之下。

雖然光刻機的制造涉及光學、機械、電子、軟件等上千個細分領域，但和ASML聯合臺積電、日本企業抱團產業鏈的模式不同，中國企業走出了更具凝聚力的攻堅路線：

以龍頭企業為核心，拉攏產業鏈各環節的頂尖企業協同發力，從核心部件到整機集成，從材料研發到軟件適配，每個環節都有專人死磕。

上海微電子作為整機制造的核心，不斷突破光刻機整機技術，而在光學鏡頭、雙工件臺、光刻膠等關鍵部件領域，國內企業也紛紛取得突破，打破了國外企業的獨家壟斷，這種全鏈條的協同攻堅，讓中國光刻機研發的步伐越走越穩。

這份穩，體現在不驕不躁的長期主義上。

ASML用40年磨一劍，中國企業也深知光刻機研發沒有捷徑可走。即便現在和ASML還有不小的差距，即便高端光刻機的核心技術還被國外掌握，中國企業依然在持續投入，不斷積累技術經驗。

其實眾所周知，無論是芯片還是光刻機，中國企業都要自主研發是被逼出來的決心。當國外的技術封鎖層層加碼，當高端光刻機的采購屢屢受限，我們沒有別的選擇，只能靠自己的雙手打破壁壘。

而不是荷蘭專家口中傳出的。

光刻機的研發，從來都不是一場單純的技術競賽，更是一場國家科技實力的比拼，中國企業的抱團攻堅、跨界入局、長期死磕，本質上都是為了掌握半導體產業的核心話語權，為了不再被別人卡住脖子。

ASML的40年，是技術積淀的40年，是行業壟斷的40年；而中國光刻機的追路之旅，雖然起步晚、底子薄，卻有著最堅定的決心和最強大的產業鏈支撐。

現在的中國企業，正用自己的狠勁，在光刻機賽道上奮力追趕，或許我們還需要很長的時間才能實現超越，但這份死磕到底的勁頭，已經讓世界看到了中國半導體產業的韌性。

對此，您怎么看。