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近日,據臺媒《聯合報》報道,針對日本半導體設備大廠Tokyo Electron(TEL)工程師陳力銘及臺積電工程師涉嫌泄漏臺積電2nm關鍵技術一案,中國臺灣高檢署在最新的調查當中發現,臺積電另外一名陳姓員工也有竊取核心技術給陳力銘,且TEL盧姓員工也有毀滅證據行為,因此對這2人及TEL追加起訴。
根據此前調查顯示,臺積電離職工程師陳力銘轉投至TEL公司擔任行銷及產品經理,疑因害怕“掉單”以及改善機臺表現良率等原因,從2023年8月起至2025年5月,找上過往臺積電同事吳秉駿及戈一平幫忙,以筆記本電腦遠程登入臺積電系統后,持手機偷拍臺積電制程或實驗結果等機密資料共四次,事后將部分機密輸入工作日志回報TEL。
2025年8月底,臺灣智慧財產檢察分署起訴陳力銘、吳秉駿、戈一平三人,認定三人竊取臺積電核心關鍵技術營業秘密,涉犯營業秘密法、安全法等罪嫌,各請求判處有期徒刑14年、9年、7年。
隨后在2025年12月,高檢署認定TEL公司也涉嫌犯安全法等四罪責,所以追加起訴TEL,分別求處罰金新臺幣4,000萬元、800萬元、4,000萬元、4,000萬元,并請定罰金新臺幣1.2億元。
最新披露的起訴書指出,檢方在偵辦此案期間,陳力銘在偵查中坦承犯行,主動供出共犯——陳姓臺積電員工,因此請求判處有期徒刑降至7年,如法院認為符合臺灣安全法減輕其刑規定,建請依法減刑。
高檢署2025年11月10日,指揮調查局新竹市調查站,前往云林、臺南搜索陳姓員工住居所,向法院申請羈押禁見獲批準。但是陳姓員工被捕后態度欠佳,請求判處有期徒刑8年8月。
盧姓員工在得知被告陳力銘遭臺積電發覺犯罪行為后,企圖推卸責任,刪除了陳力銘上傳的相關檔案,有妨害刑事案件調查的行為,且被捕后否認犯案,請判處1年有期徒刑。
TEL公司于本案查證過程中,均按檢察官要求提供相關事證,配合調查,對厘清案情尚有助益,因此請求將處罰金額降至新臺幣2500萬元。
此外,高檢署指出,檢察官在偵辦期間,為厘清TEL公司是否符合臺灣安全法第8條第7項所稱“盡力為防止行為”的要件,發現該公司于云端硬盤內,尚存有臺積電核心關鍵技術項“項次19”,也就是“14nm以下制程之IC制造技術及其關鍵氣體、化學品及設備技術”等營業秘密資料,清查后發現正是陳姓員工所竊取。
編輯:芯智訊-林子
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