近日,半導體檢測設備供應商Semilab正式發(fā)布了全新的LumiPix-3000光致發(fā)光(PL)檢測設備。
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圖片來源:Semilab
據(jù)Semilab介紹,該設備專為Micro LED器件設計,具備全晶圓成像能力,通過高精度的缺陷分析技術,解決Micro LED制造過程中面臨的亮度和波長一致性挑戰(zhàn)。LumiPix-3000采用了先進的光致發(fā)光技術,配備多種激發(fā)光源選項及高分辨率成像模塊,能夠?qū)A進行非破壞性的全面計量分析。
該設備具有廣泛的材料兼容性,支持InGaN和AlInGaP等常見的Micro LED材料體系,并可處理最大尺寸達12英寸的晶圓。
在具體性能方面,LumiPix-3000通過分析捕獲的PL圖像及相關數(shù)據(jù),能夠精準識別包括強度變化、波長偏移以及形態(tài)異常在內(nèi)的多種缺陷。這種基于圖像的非接觸式檢測方法,不僅避免了對微小LED芯片造成物理損傷,還能滿足現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)線對高吞吐量和高精度的標準要求。該設備為制造商在早期工藝階段發(fā)現(xiàn)并剔除不良品提供了有效的技術手段,有助于降低后續(xù)制程成本。
資料顯示,Semilab總部位于匈牙利布達佩斯,公司一直致力于光學、電學及材料特性測量技術的研發(fā)與應用。Semilab的產(chǎn)品線涵蓋了從光伏、半導體到平板顯示等多個高科技領域,擁有包括橢圓偏振光譜、壽命測試、方塊電阻測量等在內(nèi)的多項核心專利技術。
在Micro LED領域,Semilab近年來動作頻頻,持續(xù)強化其在新型顯示檢測市場的布局。鑒于Micro LED技術對芯片微縮化和巨量轉(zhuǎn)移工藝的嚴苛要求,良率管理成為行業(yè)痛點。
除了此次發(fā)布的PL檢測設備外,Semilab還開發(fā)了一系列針對Micro LED制程的綜合解決方案。例如,Semilab的光譜橢偏儀(SE)被廣泛用于測量外延層的厚度與光學常數(shù),而非接觸式方塊電阻測量儀則用于監(jiān)控透明導電膜及金屬電極的工藝質(zhì)量。
Semilab表示,公司未來將持續(xù)關注Micro LED顯示技術的發(fā)展趨勢,旨在通過多維度的檢測工具組合,協(xié)助客戶在Micro LED的外延生長、芯片制備及面板鍵合等關鍵環(huán)節(jié)實現(xiàn)更為嚴格的質(zhì)量控制,從而推動Micro LED顯示技術的規(guī)模化量產(chǎn)進程。(LEDinside整理)
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