Semilab發(fā)布全新高效MicroLED檢測設備

近日，半導體檢測設備供應商Semilab正式發(fā)布了全新的LumiPix-3000光致發(fā)光（PL）檢測設備。

圖片來源：Semilab

據(jù)Semilab介紹，該設備專為Micro LED器件設計，具備全晶圓成像能力，通過高精度的缺陷分析技術，解決Micro LED制造過程中面臨的亮度和波長一致性挑戰(zhàn)。LumiPix-3000采用了先進的光致發(fā)光技術，配備多種激發(fā)光源選項及高分辨率成像模塊，能夠?qū)A進行非破壞性的全面計量分析。

該設備具有廣泛的材料兼容性，支持InGaN和AlInGaP等常見的Micro LED材料體系，并可處理最大尺寸達12英寸的晶圓。

在具體性能方面，LumiPix-3000通過分析捕獲的PL圖像及相關數(shù)據(jù)，能夠精準識別包括強度變化、波長偏移以及形態(tài)異常在內(nèi)的多種缺陷。這種基于圖像的非接觸式檢測方法，不僅避免了對微小LED芯片造成物理損傷，還能滿足現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)線對高吞吐量和高精度的標準要求。該設備為制造商在早期工藝階段發(fā)現(xiàn)并剔除不良品提供了有效的技術手段，有助于降低后續(xù)制程成本。

資料顯示，Semilab總部位于匈牙利布達佩斯，公司一直致力于光學、電學及材料特性測量技術的研發(fā)與應用。Semilab的產(chǎn)品線涵蓋了從光伏、半導體到平板顯示等多個高科技領域，擁有包括橢圓偏振光譜、壽命測試、方塊電阻測量等在內(nèi)的多項核心專利技術。

在Micro LED領域，Semilab近年來動作頻頻，持續(xù)強化其在新型顯示檢測市場的布局。鑒于Micro LED技術對芯片微縮化和巨量轉(zhuǎn)移工藝的嚴苛要求，良率管理成為行業(yè)痛點。

除了此次發(fā)布的PL檢測設備外，Semilab還開發(fā)了一系列針對Micro LED制程的綜合解決方案。例如，Semilab的光譜橢偏儀（SE）被廣泛用于測量外延層的厚度與光學常數(shù)，而非接觸式方塊電阻測量儀則用于監(jiān)控透明導電膜及金屬電極的工藝質(zhì)量。

Semilab表示，公司未來將持續(xù)關注Micro LED顯示技術的發(fā)展趨勢，旨在通過多維度的檢測工具組合，協(xié)助客戶在Micro LED的外延生長、芯片制備及面板鍵合等關鍵環(huán)節(jié)實現(xiàn)更為嚴格的質(zhì)量控制，從而推動Micro LED顯示技術的規(guī)模化量產(chǎn)進程。（LEDinside整理）

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