在制造領域,有一種關鍵材料雖不如光刻機廣為人知,卻堪稱產業“命門”。
日常接觸的手機屏幕、心臟支架,再到航天器精密部件……背后核心的制造都離不開它——光刻膠。這種材料像是納米刻刀,通過光化學反應將電路圖案精準轉移到硅片上,是實現微米、納米級精度的關鍵,在制造成本中占比約12%,缺了它根本造不出半導體。
而在全球半導體材料供應里,日企對光刻膠近乎壟斷,整體產能占比超90%,7nm以下先進制程的EUV光刻膠更是100%由其供應,東京應化、信越化學等日企靠核心技術長期主導市場。
一旦日本斷供,全球產業三個月內就會全面停滯,各行各業都將面臨“無貨可用”的困境,我國也不例外。
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此言非虛。2019年日本停止對韓提供光刻膠,致使韓國半導體生產線幾近停擺,三星少主李在镕甚至緊急飛赴東京請求供貨。日前,日本經濟產業省(METI)還出臺出口管制,將42家中企列入管控清單,光刻膠亦被納入限制范圍。
究竟是哪些因素制約了其他國家在光刻膠領域實現規模化生產?為何至今沒有國家能成功仿制?一旦我國遭遇斷供局面,又該如何應對?
答案或許藏在日本對光刻膠生產的極致把控中。資料顯示,東京灣某隱蔽地下,坐落著一座堪稱全球潔凈度之最的化工廠。在此,日企可將材料純度提升至驚人的99.999999999%,其工藝精細程度令人驚嘆。
依托這一技術,日制光刻膠宛如被施了魔法。當它被均勻涂覆于硅片表面時,厚度比發絲細十萬倍有余,誤差控制更達到了極高精度。
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令人矚目的是,日本在光刻膠領域積累了超2萬項專利,同時通過設置36重技術屏障,構建起一道難以逾越的技術防線。
憑借在光刻膠技術領域的長期鉆研與突破,日本逐漸掌控了全球70%至90%的市場份額,其性能優異且技術細節高度保密,令他國難以追趕。我國光刻膠長期依賴進口,同樣面臨日本的潛在風險。
面對此困境,并未被動應對。近年來,不斷鉆研光刻膠技術并在該領域實現重大進展。據悉,自主研發的T150A光刻膠順利通過半導體制造的嚴苛測試,達成了從配方研發到生產制造的全流程自主可控。
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該光刻膠性能已可比肩國際頂尖企業的KrF系列,極限分辨率達120nm精細水準,超越諸多國外同類,且目前已實現了小批量供應,不僅得以突破日本封鎖,更為半導體產業鏈安全與自主可控筑牢根基。
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盡管日本當下在高端材料領域仍具顯著優勢,但已成功打開突破口,呈現出強勁的追趕態勢。據零和財經,截至9月26日,東材科技、久日新材等20家光刻膠相關企業年內平均漲幅均超60%,聯合化學年內漲幅更是超過468%
日本業內觀察到,我們正依托“集體智慧”加速前行,僅研究機構就已掌握128種陶瓷材料配方,可快速篩選出成本最具競爭力的產品沖擊市場。日企如今擔憂的,不僅是中方在短期內實現追趕,更憂慮其以極低成本優勢,將他們的高利潤產業拖入價格戰的困境。
而在材料領域的這一突破,也為全球產業鏈競爭帶來了深刻啟示:其一,哪怕微小零部件斷供,都可能觸發產業鏈危機;其二,長期投入資源與人才,定能突破技術壁壘。
這種產業競爭的邏輯,其實在歷史中早有印證。如同日本昔日以低價鋼鐵重塑美國鋼鐵產業格局,當下于新材料等高端制造領域的崛起,或許正昭示著全球產業鏈格局的再度重構。
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