德國蔡司：DUV光刻機比EUV光刻機重要，美國的錯誤制裁，讓中國成為了芯片市場的最大贏家

散英魂寄千萬雄鷹翱翔神州，

盡智魄載十億慧芯呼喚華夏。

01

前沿導讀

據德國蔡司SMT部門（半導體制造技術）發布的官方報道稱：

蔡司是全球先進光刻機業務的獨家鏡頭供應商，對于光刻機產業來說，DUV技術的重要性要遠大于EUV技術。即便是采用EUV光刻機制造先進芯片，其芯片當中的大多數IC關鍵層也是基于DUV技術制造出來的。

全球大約有80%的微電子芯片，都是由蔡司與ASML合作開發的光刻機制造完成，其中有95%的芯片是由DUV光刻機進行制造，掌握了先進的DUV制造技術，就相當于掌握了全球芯片產業的核心基礎力量。

02

技術市場

除手機、電腦、平板、智駕汽車之類的產品對先進芯片存有極高的需求外，工業控制、智能家電、燃油汽車等產業對于先進芯片的需求較弱，更多則是對成熟芯片的需求旺盛。

對于成熟芯片來說，采用DUV設備技術進行制造是最優的解決方案。

DUV的波長分為365nm、248nm和193nm，可以覆蓋從0.35微米到14nm級的芯片制造需求。并且DUV設備的市場數量多，制造技術更為成熟，可以滿足國際層面多個企業對于成熟芯片的大量產能需求。

而EUV設備雖然可以大量制造先進芯片，但是其整體造價更高，較DUV設備是翻倍的售價，基本只有英特爾、臺積電、三星、SK海力士等國際大廠才能消化掉。

2018年，中國大陸的中芯國際曾經花費了1.5億美元的資金，向ASML訂購了一臺EUV光刻機，這個采購價格相當于中芯國際上一年全年的利潤。

隨著美國制裁的一步步收縮，荷蘭政府迫于美國的壓力，撤銷了ASML向中國出售EUV光刻機的許可，暫停產品的交付。

EUV被封鎖，但是DUV設備還可以繼續交付，所以中國企業在2022年和2023年期間，向ASML采購了大量的光刻機和制造耗材，提前囤積設備，盡可能保證國內芯片的產能效應。

制造成熟芯片的主力設備是浸潤式DUV光刻機，浸潤式的上一代技術是干式技術，干式光刻機的鏡頭分辨率受芯片上方空氣空間的限制，無法進一步縮短，已經接近于設備的物理極限。

于是前臺積電工程師林本堅在空氣空間中加入高純度的水，光源打入水中產生折射，從而縮短光源波長，將光刻機鏡頭的分辨率提升至≤40nm，可以制造出更加先進的芯片產品，同時也極大提升了制造效率。

在浸潤式光刻機的制造中，其鏡頭均為德國蔡司為其單獨定制的鏡頭，全球也僅此一家可以制造出符合要求的光刻機鏡頭。

現在的國產光刻機設備，想要將浸潤式設備開發完成投入商用 ，面臨的核心問題就是提升光源發射器與配套零部件的兼容度，提升制造芯片的良品率。

03

成熟芯片

據美國半導體協會的調查報告顯示，中國大陸地區在28nm及以上的成熟芯片產能當中，占據著極大優勢，其占據了全球成熟芯片市場的33%，并且該產能優勢還會在未來的多年內持續增大。

先進芯片固然重要，但成熟芯片的整體市場要遠大于先進芯片。

以汽車產業舉例，不管是燃油車還是新能源汽車，其對于先進芯片需求最旺盛的模塊也就是車機芯片和智駕芯片。而其他的控制器、傳感器、功率芯片等產品，均是成熟制程的芯片。這些芯片需要滿足車規級要求，需要具備低成本、高穩定、耐高溫、耐腐蝕、衰弱周期長等嚴苛要求。

先進芯片對于汽車行業的作用，除了高階輔助駕駛，剩下的就是提升車機操作的流暢性，本質上還是手機和電腦領域的應用范疇。

除汽車產業外，家電產業和工業控制均需要低成本、穩定性強的成熟芯片進行產品驅動。這些龐大的應用市場，讓中國企業在被美國制裁的情況下，找到了產業突破口。

中國企業的手中存有大量ASML的DUV光刻機，這些設備可以持續以高效率的狀態制造成熟芯片。

一旦中國企業的成熟芯片在國際層面占據了大量市場份額，那么中國企業便可深度融入全球的半導體產業鏈，以實現海外企業對中國產品的依賴性，從而提高中國企業在國際芯片市場的話語權。

往期經典回顧：50萬+閱讀量

往期經典回顧：100萬+閱讀量