山東
IT之家 4 月 7 日消息，韓媒 Sedaily 當地時間 6 日報道稱，三星電子已為平澤半導體生產基地 P5 晶圓廠集群的首個階段 PH1 訂購了 70 余臺光刻機，為該階段 2027 年的投運做好準備。
平澤 P5 PH1 所需的這些光刻機來自 ASML 和佳能，其中約 20 臺為 ASML 的 EUV 曝光系統。P5 PH1 將用于 1c nm 制程 DRAM 生產，將同時制造通用內存和 HBM。
三星電子預計將從 2027Q2 開始為平澤 P5 PH1 安裝圖案化設備，屆時該階段的潔凈室施工也將完成，有望在 2027 年內對產能帶來有意義的貢獻，滿足英偉達 "Rubin" 與其它 AI XPU 的需求，紓解當前 DRAM 市場的供應緊張態勢。
特別聲明：以上內容(如有圖片或視頻亦包括在內)為自媒體平臺“網易號”用戶上傳并發布，本平臺僅提供信息存儲服務。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
