尼康最懂光刻機(jī)的CEO卸任，留下850億日元的窟窿

2026 年 4 月 1 日，尼康集團(tuán)會(huì)長(zhǎng)兼 CEO 馬立稔和（Toshikazu Umatate）卸任。接替他出任社長(zhǎng)兼 CEO 的是此前負(fù)責(zé)醫(yī)療健康和光學(xué)技術(shù)的大村泰弘，現(xiàn)任社長(zhǎng)兼 COO 德成旨亮則轉(zhuǎn)任會(huì)長(zhǎng)。尼康在 2 月 12 日的董事會(huì)上通過(guò)了這一人事方案，稱之為“配合新中期經(jīng)營(yíng)計(jì)劃的領(lǐng)導(dǎo)層調(diào)整”。

但在外界看來(lái)，這絕非一次從容的交接。截至 2026 年 3 月結(jié)束的財(cái)年，尼康預(yù)計(jì)錄得約 1,000 億日元的營(yíng)業(yè)虧損和約 850 億日元的凈虧損。這是這家創(chuàng)立于 1917 年的光學(xué)企業(yè)有史以來(lái)最糟糕的財(cái)務(wù)表現(xiàn)。第三季度單季凈虧損就達(dá)到 925 億日元，一年前同期還有 33 億日元的盈利。

圖丨馬立稔和（來(lái)源：Nikon）

巨虧的直接原因是一筆高達(dá) 906 億日元的減值損失，來(lái)自尼康 2022 年收購(gòu)的德國(guó)金屬 3D 打印公司 SLM Solutions。尼康承認(rèn)，SLM 未來(lái)的銷售增長(zhǎng)將遠(yuǎn)低于收購(gòu)時(shí)的預(yù)期。但減值之外，公司的核心精機(jī)事業(yè)（半導(dǎo)體和 FPD 光刻設(shè)備）同樣在經(jīng)歷庫(kù)存減記和訂單萎縮。即便剔除一次性因素，尼康本財(cái)年仍預(yù)計(jì)出現(xiàn)約 100 億日元的營(yíng)業(yè)虧損。

2025 年度上半年，尼康的半導(dǎo)體光刻機(jī)僅售出 9 臺(tái)，全部是成熟制程的 DUV（深紫外）設(shè)備。同一時(shí)期，ASML 出貨約 160 臺(tái)，其中包括約 20 臺(tái) EUV（極紫外）光刻機(jī)。兩家公司曾經(jīng)是勢(shì)均力敵的對(duì)手，如今這個(gè)出貨比已經(jīng)沒(méi)有什么可比性了。

馬立稔和在尼康的職業(yè)生涯跨越了將近四十年，幾乎全部圍繞半導(dǎo)體光刻機(jī)展開。早在 2006 年，他就以精機(jī)事業(yè)部執(zhí)行役員的身份代表尼康出席與新思科技（Synopsys）的聯(lián)合技術(shù)發(fā)布會(huì)，討論 45nm 工藝節(jié)點(diǎn)的光刻仿真優(yōu)化。

2014 年至 2019 年間，他擔(dān)任半導(dǎo)體光刻事業(yè)部的高級(jí)副總裁兼總經(jīng)理，直接管理這項(xiàng)業(yè)務(wù)的研發(fā)和銷售。2015 年尼康獲得英特爾“最佳品質(zhì)供應(yīng)商”獎(jiǎng)時(shí)，站出來(lái)代表公司致辭的也是他。此后他先升任 CTO，2019 年出任社長(zhǎng)兼 CEO，2024 年 4 月又兼任會(huì)長(zhǎng)。

尼康內(nèi)部沒(méi)有誰(shuí)比馬立稔和更深地扎根于光刻機(jī)業(yè)務(wù)。這既意味著他對(duì)技術(shù)細(xì)節(jié)有著極深的理解，也意味著尼康光刻機(jī)在過(guò)去二十年間的戰(zhàn)略走向，他始終是核心參與者。

故事要從尼康光刻機(jī)最風(fēng)光的年代說(shuō)起。1980 年代到 1990 年代末，尼康是這個(gè)領(lǐng)域無(wú)可爭(zhēng)議的霸主。市場(chǎng)份額最高時(shí)超過(guò) 50%，英特爾、IBM、AMD、德州儀器都是它的客戶。尼康 1980 年推出第一臺(tái)商用半導(dǎo)體光刻機(jī)后，憑借在光學(xué)鏡頭和精密機(jī)械上的積累，在此后二十年里穩(wěn)坐行業(yè)第一。1982 年成立的 Nikon Precision 把服務(wù)前線直接設(shè)在硅谷，美國(guó)芯片廠商排著隊(duì)等設(shè)備交付。

1984 年，ASML 在荷蘭由飛利浦實(shí)驗(yàn)室與 ASM International 合資成立，31 個(gè)人擠在飛利浦總部旁邊的臨時(shí)板房里辦公。之后整整十六年，ASML 的份額長(zhǎng)期不超過(guò) 10%，在尼康面前幾乎沒(méi)有存在感。

轉(zhuǎn)折從 2002 年開始。當(dāng)時(shí)光刻機(jī)行業(yè)遇到了一個(gè)集體性的技術(shù)瓶頸：193nm 波長(zhǎng)的 ArF 光源潛力已經(jīng)逼近極限，而業(yè)界寄予厚望的下一代 157nm 光源，研發(fā)進(jìn)展緩慢，配套的 CaF? 透鏡材料成本極高。所有主要廠商，包括尼康、佳能、IBM 等都在 157nm 干式路線上投入了大量資源。

2002 年夏天，時(shí)任臺(tái)積電研發(fā)高管的林本堅(jiān)（Burn J. Lin）在 SEMATECH 主辦的 157nm 微影研討會(huì)上做了一次偏離預(yù)定主題的演講。他原本被安排討論如何用浸沒(méi)技術(shù)延長(zhǎng) 157nm 光刻的壽命，但他在演講中直接指出 157nm 路線的技術(shù)挑戰(zhàn)過(guò)于嚴(yán)峻，轉(zhuǎn)而提議將浸沒(méi)技術(shù)應(yīng)用于已經(jīng)成熟的 193nm 平臺(tái)。用水（折射率約 1.44）替代空氣填充鏡頭與晶圓之間的空隙，可以將 193nm 光源的等效波長(zhǎng)壓縮到約 134nm，不需要開發(fā)新光源就能大幅提升分辨率。

圖丨林本堅(jiān)（來(lái)源：Graduate Institute of Photonics and Optoe）

這個(gè)方案遇到了廣泛的懷疑。當(dāng)時(shí)行業(yè)的主流共識(shí)仍然錨定在 157nm 干式路線上，各大廠商已經(jīng)投入了數(shù)億美元的研發(fā)費(fèi)用。浸沒(méi)式意味著推翻既有路線，接受沉沒(méi)成本。尼康也不例外，它在 157nm 路線上的投入尤為深重。

ASML 是當(dāng)時(shí)少數(shù)愿意認(rèn)真對(duì)待浸沒(méi)式的公司之一。作為市場(chǎng)追趕者，ASML 在既有路線上和尼康正面競(jìng)爭(zhēng)并不占優(yōu)勢(shì)，一條新技術(shù)路線反而可能改變格局。2003 年，ASML 向客戶交付了第一臺(tái)浸沒(méi)式光刻機(jī)原型 TWINSCAN XT:1150i。同年 12 月，臺(tái)積電成為全球第一家正式下單 ASML 浸沒(méi)式光刻機(jī)的芯片制造商。

尼康的反應(yīng)明顯慢了一拍。它的第一臺(tái)浸沒(méi)式原型機(jī)直到 2004 年 10 月才完成，比 ASML 晚了將近兩年。佳能更干脆，始終沒(méi)有交付過(guò)浸沒(méi)式產(chǎn)品。

兩年的時(shí)間差在半導(dǎo)體行業(yè)足以改變競(jìng)爭(zhēng)格局。ASML 的浸沒(méi)式光刻機(jī)是在成熟的 193nm 平臺(tái)上改進(jìn)而來(lái)，客戶切換成本低、系統(tǒng)穩(wěn)定性好。尼康同期力推的 157nm 干式光刻機(jī)則是全新架構(gòu)的產(chǎn)品，市場(chǎng)接受度遠(yuǎn)不及預(yù)期。到 2009 年，ASML 的全球市場(chǎng)份額飆升至約 70%，尼康從行業(yè)龍頭變成了跟隨者。

浸沒(méi)式之戰(zhàn)的失利已經(jīng)很痛，但真正讓尼康喪失翻盤可能的，是接下來(lái)在 EUV（極紫外光刻）領(lǐng)域的出局。

浸沒(méi)式光刻的潛力終歸有限。要制造 7nm 及以下的先進(jìn)制程芯片，行業(yè)需要波長(zhǎng)更短的光源。EUV 使用 13.5nm 波長(zhǎng)的極紫外光，分辨率遠(yuǎn)超 193nm 浸沒(méi)式，被視為延續(xù)摩爾定律的關(guān)鍵技術(shù)。

尼康和日本政府都把 EUV 看作必須拿下的制高點(diǎn)。馬立稔和此時(shí)已經(jīng)成長(zhǎng)為尼康光刻技術(shù)團(tuán)隊(duì)的核心管理者，參與主導(dǎo)了尼康的 EUV 預(yù)研。日本政府以經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省為主導(dǎo)，投入數(shù)百億日元資金，聯(lián)合尼康、佳能、東京電子、信越化學(xué)和多所大學(xué)，組建了龐大的產(chǎn)官學(xué)攻關(guān)體系。這條路線的基本思路是集中國(guó)內(nèi)力量、垂直整合、自主研發(fā)。

但這個(gè)體系從一開始就面臨一個(gè)結(jié)構(gòu)性問(wèn)題：尼康被排除在了美國(guó)主導(dǎo)的 EUV 核心技術(shù)圈之外。

1997 年，英特爾聯(lián)合 AMD、摩托羅拉等美國(guó)芯片廠商，與美國(guó)能源部下屬的桑迪亞、勞倫斯利弗莫爾和勞倫斯伯克利三大國(guó)家實(shí)驗(yàn)室合作，成立了 EUV LLC 聯(lián)盟，投入約 2.5 億美元進(jìn)行 EUV 基礎(chǔ)技術(shù)研究。

英特爾作為聯(lián)盟中最大的出資方，本來(lái)希望把尼康也拉進(jìn)來(lái)。但美國(guó)國(guó)會(huì)和能源部對(duì)將納稅人資助的研究成果轉(zhuǎn)讓給日本企業(yè)高度警惕，1980 年代日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)美國(guó)造成的沖擊仍然是鮮明的記憶。最終，ASML 被允許加入聯(lián)盟并獲得 EUV 技術(shù)的許可授權(quán)，條件是承諾在美國(guó)投資和采購(gòu)；尼康和佳能則被拒之門外。

ASML 拿到入場(chǎng)券后步步推進(jìn)：2001 年收購(gòu)美國(guó)光刻設(shè)備商 SVG，獲得更多 EUV 知識(shí)產(chǎn)權(quán)；與德國(guó)蔡司合作開發(fā) EUV 光學(xué)系統(tǒng)；2012 年收購(gòu)美國(guó)光源公司 Cymer。同年，英特爾、三星、臺(tái)積電三大客戶向 ASML 直接注資超過(guò) 60 億歐元，幫助其加速 EUV 商用化，這種由客戶出錢扶持供應(yīng)商的模式，在半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)也是史無(wú)前例。

尼康走的是另一條路。靠日本國(guó)內(nèi)的力量自主研發(fā)，既沒(méi)有全球化供應(yīng)鏈的配合，也沒(méi)有頂級(jí)客戶的真金白銀。2007 年前后，尼康確實(shí)造出了 EUV 光刻機(jī)的原型機(jī)，但始終未能達(dá)到可商用的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)。

據(jù) CSET（喬治城大學(xué)安全與新興技術(shù)中心）2024 年發(fā)布的研究報(bào)告，到 2011 年前后，EUV 開發(fā)成本已經(jīng)飆升到尼康難以獨(dú)立承受的程度，公司選擇退出 EUV 的商用化開發(fā)。ASML 也曾在這條路上燒錢到幾乎斷糧，但它有三大客戶兜底，有美國(guó)國(guó)家實(shí)驗(yàn)室的技術(shù)積累，有蔡司和 Cymer 的配套，而尼康沒(méi)有這些。

至此，尼康在先進(jìn)制程光刻設(shè)備市場(chǎng)上的競(jìng)爭(zhēng)資格實(shí)質(zhì)性終結(jié)。ASML 成為全球唯一的 EUV 光刻機(jī)供應(yīng)商。臺(tái)積電、三星、英特爾要推進(jìn) 7nm、5nm、3nm 制程，只能找 ASML 買設(shè)備。這個(gè)市場(chǎng)里不再有尼康的位置。

馬立稔和在升任 CEO 之后，試圖為尼康尋找光刻機(jī)之外的增長(zhǎng)空間。在最知名的影像業(yè)務(wù)上，其任期內(nèi)尼康的 Z 卡口無(wú)反相機(jī)產(chǎn)品線持續(xù)擴(kuò)展，Z8、Zf、Z6III 等機(jī)型在全球市場(chǎng)都取得了不錯(cuò)的成績(jī)，2025 財(cái)年影像產(chǎn)品營(yíng)收達(dá)到 2,953 億日元，同比增長(zhǎng) 5.6%，已經(jīng)超過(guò)精機(jī)事業(yè)成為集團(tuán)最大的收入來(lái)源。

2024 年，尼康又斥資約 85 百萬(wàn)美元收購(gòu)了美國(guó)電影攝影機(jī)品牌 RED Digital Cinema，將 RED 的色彩科學(xué)和編碼技術(shù)引入 Z 卡口生態(tài)，隨后推出了融合兩家技術(shù)的 ZR 數(shù)字電影攝影機(jī)，試圖打入此前被索尼、佳能和 ARRI 主導(dǎo)的專業(yè)影視制作市場(chǎng)。

但在戰(zhàn)略布局上，馬立稔和押得更重的賭注是 3D 打印。2022 年，尼康斥資約 622 億日元收購(gòu)德國(guó)金屬 3D 打印企業(yè) SLM Solutions，押注數(shù)字制造領(lǐng)域。這筆收購(gòu)被定位為公司戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型的支點(diǎn)，目標(biāo)是在航空航天和國(guó)防領(lǐng)域的增材制造市場(chǎng)中建立新的收入來(lái)源。

但金屬 3D 打印市場(chǎng)的增速遠(yuǎn)不及預(yù)期，SLM 的營(yíng)收持續(xù)低迷。到 2026 財(cái)年第三季度，尼康不得不為這筆收購(gòu)計(jì)提 906 億日元的商譽(yù)和無(wú)形資產(chǎn)減值，這一個(gè)數(shù)字就幾乎吞掉了公司全年的利潤(rùn)。

在光刻機(jī)業(yè)務(wù)上，尼康目前的策略是固守成熟制程市場(chǎng)，同時(shí)嘗試局部反攻。公司正在開發(fā)一款新的 ArF 浸沒(méi)式光刻系統(tǒng)，計(jì)劃 2028 財(cái)年推出，設(shè)計(jì)上刻意兼容 ASML 的 TWINSCAN 生態(tài)，降低客戶切換門檻。目標(biāo)很明確：在 ASML 占據(jù)超過(guò) 90% 份額的 ArF 浸沒(méi)式市場(chǎng)中搶回一些空間。此外，尼康也在開發(fā)面向先進(jìn)封裝的無(wú)掩膜數(shù)字光刻設(shè)備，試圖在 Chiplet 和玻璃基板封裝等新興領(lǐng)域找到切入點(diǎn)。

但尼康面臨的結(jié)構(gòu)性困境，遠(yuǎn)不是一兩款新產(chǎn)品能解決的。SemiVision Research 在 2026 年 3 月的一篇分析中指出了尼康的核心矛盾：它既不是先進(jìn)制程領(lǐng)域不可或缺的供應(yīng)商，也不是成熟制程市場(chǎng)中成本最低的玩家。在先進(jìn)制程那端，ASML 的壟斷地位不可動(dòng)搖，只要臺(tái)積電、三星和英特爾還在推進(jìn)更小的節(jié)點(diǎn)，ASML 就是必選供應(yīng)商。

在成熟制程這端，中國(guó)正在大規(guī)模擴(kuò)充 28nm 及以上工藝的產(chǎn)能，國(guó)產(chǎn)設(shè)備替代的浪潮正在逐步蠶食尼康賴以生存的客戶基礎(chǔ)。出口管制又讓尼康無(wú)法安心把中國(guó)當(dāng)作增長(zhǎng)支柱，既面臨合規(guī)風(fēng)險(xiǎn)，又面臨未來(lái)被中國(guó)國(guó)產(chǎn)設(shè)備取代的長(zhǎng)期威脅。

馬立稔和留給繼任者的，是一個(gè)遠(yuǎn)比他接手時(shí)更困難的局面。他的前任牛田一雄（Kazuo Ushida）2019 年交棒時(shí)，尼康雖然已經(jīng)在先進(jìn)光刻領(lǐng)域落后 ASML，但至少核心業(yè)務(wù)還在盈利，英特爾這個(gè)大客戶的訂單也相對(duì)穩(wěn)定。而現(xiàn)在，英特爾自身深陷制程轉(zhuǎn)換的泥潭，對(duì)尼康光刻機(jī)的采購(gòu)量已經(jīng)大幅下滑。據(jù)報(bào)道，尼康光刻機(jī)營(yíng)收中有七到八成曾依賴英特爾一家客戶。英特爾訂單的萎縮，對(duì)尼康精機(jī)事業(yè)的打擊不亞于任何技術(shù)路線的失敗。

回頭看馬立稔和的整個(gè)職業(yè)生涯，他身上濃縮了尼康光刻機(jī)業(yè)務(wù)的全部矛盾。他入職時(shí)，尼康正處在巔峰；他掌管光刻事業(yè)部時(shí)，尼康已經(jīng)在浸沒(méi)式和 EUV 兩場(chǎng)關(guān)鍵戰(zhàn)役中落敗；他成為 CEO 后，試圖用 SLM 收購(gòu)打開新局面，結(jié)果又遭遇了一次昂貴的失敗。這不全是一個(gè)人的責(zé)任，尼康在浸沒(méi)式上的遲鈍是整個(gè)日本光刻產(chǎn)業(yè)的集體選擇，在 EUV 上的出局更有深刻的地緣政治因素，但馬立稔和作為這家公司光刻基因最深的管理者，確實(shí)是這段下墜歷史中最無(wú)法回避的名字。

新任 CEO 大村泰弘的背景是光學(xué)工程，在尼康的光學(xué)工程部門和醫(yī)療健康事業(yè)部都有過(guò)管理經(jīng)驗(yàn)，后來(lái)又擔(dān)任過(guò) CTO，負(fù)責(zé)生產(chǎn)技術(shù)。他不是從光刻機(jī)業(yè)務(wù)線上成長(zhǎng)起來(lái)的人，這或許是尼康有意為之的選擇。尼康的下一個(gè)五年中期計(jì)劃（2026 年 4 月至 2031 年 3 月）需要回答的核心問(wèn)題只有一個(gè)：在 ASML 和中國(guó)之間，尼康到底還能找到什么樣的生存空間？

圖丨大村泰弘（來(lái)源：Nikon）

1980 年代入職尼康的那批工程師，大概從沒(méi)想過(guò)有一天要回答這種問(wèn)題。

參考資料：

1.https://tspasemiconductor.substack.com/p/caught-between-asml-and-china-nikon

2.https://www.asianometry.com/p/a-deep-dive-into-immersion-lithography

3.https://www.nikon.com/company/news/2026/20260304_01_e.pdf

4.https://www.nikon.com/company/ir/ir_library/result/pdf/2025/25_1_e.pdf

5.https://www.construction-physics.com/p/how-asml-got-euv

運(yùn)營(yíng)/排版：何晨龍