2026年初,臺積電在九州的工廠開始大批量供應3納米芯片,人們主要關注它的產能和地緣風險,卻很少注意到這個廠設在福岡的原因——它離一家日本光刻膠制造商只有不到50公里距離,一臺EUV光刻機價值1.8億美元,但如果沒有日本產的高端光刻膠支持,整條生產線在24小時內就得停止運轉,這是真實發生的情況。
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全球能生產EUV光刻膠的只有信越、JSR和東京應化三家公司,它們加起來占了超過九成的市場,這些公司生產的光刻膠中金屬雜質要控制在0.1ppb以內,就好比六個標準游泳池的水里不能有一粒小于一微米的沙子,而且這種材料還很嬌貴,保質期只有三個月到半年,晶圓廠不敢多存,存多了就報廢,這些精度不是靠買設備堆出來的,而是日本化工人員從1980年代開始經過幾萬次試錯才摸索出來的經驗。
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中國公司沒有直接挑戰最先進的EUV光刻膠,轉而先集中力量發展KrF和ArF這些相對成熟的光刻膠品種,晶瑞電材與彤程新材近年來產能持續提升,中芯國際和華虹半導體已經開始采用他們的產品,市場份額每年增長超過35%,證明這個發展路徑確實可行,他們不追求一步到位,而是通過成熟制程積累經驗培養團隊,逐步向更高端領域邁進。
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其實不只是中國依賴日本膠,英特爾、三星、SK海力士也一樣,2023年底日本傳出可能限制出口,全球晶圓廠庫存立馬掉了40%,美國砸了520億搞芯片本土化,結果材料這塊還是繞不開亞洲供應鏈。
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日本企業研發一個配方常常要花八年以上,工程師們總守在生產線旁邊,跟機器不斷磨合,國內以前有人喊出“三個月拿出樣品,一年實現量產”的口號,結果很多項目最后都卡在細節問題上,現在那些領先的公司變得聰明了,開始和高校、研究所長期合作,想把研發時間拉長一些,把工作做得更細致。
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還有人提到,EUV膠的難點不只是配方本身,它需要整個環境的配合,光刻機的參數、潔凈室的溫濕度、甚至工人的站姿都會影響最終成像效果,只靠拆解分子結構可能解決不了問題,得重新建立一套制造生態,中科院微電子所最近聯合中船718所,一起研發高純溶劑和超純水系統,打算從最上游開始一步步補齊。
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