湖南
芯片的制造過程，光刻機、刻蝕機都是必不可少的設備。
光刻機是將芯片電路圖投影至涂了光刻膠的硅晶圓上，進行電路的刻錄，而刻蝕機則將刻錄好的電路圖保留下來，將不要的部分腐蝕掉，只保留要的部分。
所以光刻機重要，刻蝕機也同樣重要，雙方的功能互補，是對應的。
但大家不知道的是，國產光刻機技術不太行，但國產刻蝕機技術，可是非常行的。
從技術上來看，目前國產刻蝕機的技術是全球頂尖的，達到了國際同步的水平，而國產最強的刻蝕機廠商，就是中微公司了。
這家企業，則尹志堯博士，在2004年創辦的，當時他從海外回來，帶著一幫海歸精英創辦了它。至今也是20來年的歷史。
在創辦這家企業之前，尹志堯博士，一直在美國芯片巨頭工作，比如英特爾，應用材料、泛林等，有著豐富的經驗，還有著眾多的專利。
他歸國后，看到國產刻蝕機水平這么低，于是一頭扎了進來，于2007年就推出了中國首臺電容性等離子體刻蝕設備，打破國外壟斷。
后來發展太快，還引來了應用材料的打壓起訴，但有技術就不怕，針對應用材料的打壓，中微根本就不慫，最后還勝訴了。
后來，中微不斷的發展，不斷的突破，一步一步的走到了世界前列，目前中微的刻蝕機，早已進入了臺積電的供應鏈，技術也達到了3nm，是國產最強刻蝕機企業，也是全球最強的光刻機企業之一。
而為了保持這種先進性，同時避免被國外的供應鏈卡脖子，中微更是做了一件大事，那就是在自己的生產線上，實現100%的國產化，全部采用國產元件。
按照中微公司的官方說法，目前在生產線上實現了全套國產化，并且在刻蝕機的零部件上也實現了全部國產化，根本就不擔心卡脖子的問題。
而除了刻蝕機之外，目前中微也涉足了薄膜沉積設備、MOCVD設備等，在這些領域，也達到了全球頂尖水平，特別是氮化鎵基LED MOCVD設備，全球領先。
2025年，中微公司預計營收124億元，其中刻蝕設備約占98.32億元，其它的主要就是LPCVD和ALD等半導體薄膜設備，而利潤超過20億元，所以靠著這個業績，能夠殺進全球前20，排到全球第13名了。
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