再度突破！蘇大維格子公司最新掩模缺陷檢測設備通過商用驗收

近日，蘇大維格（300331.SZ）子公司維普半導體稱，公司新一代STORM5000掩模缺陷檢測設備順利通過國內某頭部客戶商用驗收，同時下一臺STORM5000設備目前已完成出廠前測試，將于本月底前交付國內另一關鍵客戶。

維普半導體是國內極少數在半導體光掩模缺陷檢測設備領域已實現規模化量產的企業，其技術、產品和核心算法系正向自研開發，擁有自主知識產權，主要核心零部件實現了國產化和自主可控。其產品已進入國內頭部晶圓廠和國內外頭部掩膜版廠商的量產線，用于替代美國KLA及日本Lasertec產品。

STORM5000是維普半導體推出的第4代掩模圖形缺陷檢測設備，基于STORM3000的技術積累及成功經驗，經過近3年的迭代研發，STORM5000在光學成像、算法、算力等方面進一步提升，可滿足更高制程的Mask制造。支持PSM、Binary掩模檢測，適配ArF與KrF對應的技術節點，產品關鍵指標達預期，具備相關進口設備的替代能力。

ArF光源制程是指使用氟化氬(ArF)準分子激光作為曝光光源的光刻技術，ArF光刻機通過193納米激光束照射光刻膠，使其發生化學反應形成電路圖案。干式ArF光刻機在干燥環境下工作，可支持65納米至130納米技術節點(如邏輯芯片后段金布線層)。浸沒式ArF光刻技術則在投影透鏡與硅片之間注入超純水，利用水的折射率將有效波長縮短至134納米，顯著提升分辨率，覆蓋從45納米到7納米的制程范圍。多重曝光等技術進一步擴展了其應用邊界，使浸沒式ArF成為12英寸晶圓廠服役時間最長的“功勛設備”。

業內人士表示，ArF制程主要集中在半導體制造的光刻環節，ArF制程的應用直接支撐了國內先進制程芯片的研發與生產。盡管當前國產光刻機主要覆蓋成熟制程，但ArF光刻膠的技術突破已使國內晶圓廠具備14納米及以下節點的制造能力?。這一進展對汽車芯片、消費電子等領域具有現實意義，例如2021年日本企業對華ArF光刻膠斷供曾導致國內14納米晶圓廠產能停擺，凸顯了自主化的重要性。

掩膜版缺陷檢測設備2023年全球市場規模約為18.1億美元，預計2030年將達到30億美元。該領域過去主要由美、日壟斷，國產率不足3%。本次常州維普半導體推出的第4代掩模圖形缺陷檢測設備STORM5000的驗收通過代表了我國在半導體掩模圖形缺陷檢測設備的國產化上邁出重要且堅實的一步。??

另外，據維普半導體公眾號顯示，公司產品已交付上海中芯國際、迪思微、中微掩模、路維光電、路芯半導體、清溢光電、龍圖光罩、睿晶半導體等國內客戶，且實現連續復購，并且已進入科盛德(上海)、美日豐創（廈門）等國際一線客戶。

此前，A股上市公司蘇大維格以5.1億元關聯交易收購常州維普半導體設備有限公司51%股權。交易完成后，常州維普將成為蘇大維格控股子公司，納入合并報表范圍。

蘇大維格作為國內微納光學領域的龍頭企業，其核心業務已覆蓋高端激光直寫光刻機和納米壓印光刻機的研發與制造，而半導體光掩模制造設備、先進封裝檢測設備等業務，正成為其未來發展的核心戰略方向。

收購維普半導體后，雙方可以發揮各自在激光直寫光刻和掩模缺陷檢測領域的優勢，一方面，蘇大維格可借助常州維普半導體的客戶資源及量產經驗，加快推進激光直寫光刻機在半導體光掩模制造和先進封裝領域的量產應用；另一方面，也極大程度上助力常州維普半導體在先進制程光學系統方面實現更加高效的研發。產業整合符合國家產業政策和通過并購做大做強上市的目標。