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在能源材料研究領域,原子層沉積(ALD)技術憑借原子級薄膜控制能力,成為高性能器件研發的核心支撐。但傳統立式 ALD 設備存在占地大、難聯用等問題,長期制約著實驗室前沿研究效率。美國Arradiance公司的GEMStar系列臺式原子層沉積ALD系統,在小巧的機身(82 x 64 x 31 cm)中集成了原子層沉積所需的所有功能,節省空間的同時提供了工業級的薄膜沉積性能,非常適合實驗室環境下的前沿材料與器件研究。值得一提的是,GEMstar采用側開式反應腔門,方便與手套箱聯用,實現無氧前后處理環境,保障器件界面質量,有效保護了鈣鈦礦等敏感材料,更助力科研團隊在《Nature》發表重磅成果,實現 26.92% 認證效率與超 1000 小時熱穩定性的雙重突破!
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核心亮點:直擊科研難題
超小體積,實驗室輕松部署:機身僅 82×64×31cm,無需專用機房,直接放置實驗桌即可運行;
手套箱無縫聯用,隔絕污染:側開式反應腔門設計,可與手套箱無縫對接,實現無氧無水環境下的連續制備,從根源避免鈣鈦礦等敏感材料的界面污染;
原子級精準控制:薄膜厚度通過循環次數精確調控,均勻性高達 99%,無針孔、高保形性,可覆蓋復雜器件結構;
多規格兼容,適配多元需求:支持 4、6、8 英寸多片樣品同時沉積,無論是基礎研究還是批量驗證,都能高效滿足;
標準化流程,數據穩定可復現:統一操作規范保障不同批次器件制備的一致性,為實驗結果可靠性筑牢基礎。
核心應用:聚焦高能效器件前沿研究
鈣鈦礦太陽能電池:制備電子傳輸層、封裝層,提升界面相容性與器件穩定性;
可充電電池:制備固態電解質、界面改性、電極與固態電解質副反應的阻隔、潤濕性的改善、金屬負極的保護等;
敏感材料薄膜沉積:適配有機半導體、金屬氧化物等空氣敏感材料,避免制備過程中氧化或污染;
多層復雜器件研發:精準構建功能層結構,優化能級對齊,助力傳感、微電子等領域創新;
高穩定性器件量產驗證:標準化流程與批量沉積能力,為科研成果產業化搭橋。
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Nature正刊背書,高水平研究的 “硬核支撐”!
近日,發表于《Nature》的一項研究通過引入可交聯的自組裝單分子層(SAM)技術,成功制備出認證效率高達26.92%的鈣鈦礦太陽能電池,并展現出超卓的熱穩定性(85°C下連續工作1,000小時效率幾乎無衰減)。本研究中太陽能電池器件結構為FTO/SAM/鈣鈦礦/EDAI?/C??/ SnO? /Ag,作者使用Arradiance公司的GEMStar系列臺式原子層沉積ALD系統制備了其中的電子傳輸層(20 nm厚的SnO?薄膜)及封裝層(10 nm的Al2O3)。研究者設計了一種含疊氮基團的客分子JJ24,將其與主SAM分子CbzNaph共沉積后,通過熱退火觸發交聯反應,形成共價連接的“增韌”SAM層。該交聯結構顯著增強了SAM層的構象穩定性,抑制了因分子熱擺動導致的基底暴露,從而有效防止了鈣鈦礦與TCO基底接觸引發的分解。同時,交聯SAM具有更高的分子偶極矩,能更好地調控界面能級對齊,提升空穴提取效率。
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參考文獻:Toughened self-assembled monolayers fordurable perovskite solar cells,Naturevolume 646, pages95–101 (2025)
在本項研究中,GEMstar ALD系統的標準化操作流程保證了不同批次器件制備的一致性,其制備的薄膜還具有下核心優勢:
無針孔、高保形性的均勻覆蓋:SnO?層均勻、致密且無孔洞,覆蓋下方的C??和鈣鈦礦層,有效防止上電極金屬(Ag)的擴散,并減少界面電荷復合。
精確的厚度控制:本研究中所用的20 nm SnO?層,其厚度可通過循環次數精確控制,這對于優化器件的電荷提取與傳輸平衡、減少光學損耗至關重要,保證了器件性能的高度可重復性。
保護空氣敏感界面:鈣鈦礦材料對空氣中的水分和氧氣極為敏感。將沉積有這些材料的半成品器件直接暴露在大氣中進行傳輸,會嚴重損害界面質量,導致器件性能急劇下降甚至失效。GEMstar ALD系統的側開式腔門方便與手套箱連用,可在鈣鈦礦及有機層的制備后,直接將樣品送入ALD腔室進行SnO?沉積。這種無縫連接最大限度地減少了界面污染,是獲得高性能和高穩定性器件的關鍵保障。
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