ASML CEO：賣給中國的光刻機，落后8代，是10年前的產品了

近日，全球最牛的光刻機廠商ASML的CEO克里斯托夫·富凱，接受了媒體的專訪，在談到向中國出口的光刻機時，說出了很多自己的觀點。

其中他提到，ASML目前對中國出口的光刻機，比ASML最新的光刻機，其數值孔徑是整整落后了8代的，技術水平，就相當于他們2013年、2014年向其它西方國家出口的水平，技術差距超過了10年。

這話一說出來，網友們瞬間炸鍋了。

因為大家一直以來，都以為只是EUV光刻機買不到，非EUV光刻機還是沒什么問題的，比如浸潤式DUV光刻機等，應該是隨便能買的，不受限制的。

最后發現，原來真不是如此，浸潤式DUV也是有型號，有技術代差的，并且差距如此之大，整整10年啊，一直只把10年前的東西，賣給中國，真的難以接受。

很多人并不清楚，光刻機先進不先進，其實是從光源、數值孔徑等多方面來判斷的，光源真不是唯一標準。

在同樣的光源下，數值孔徑越大，那么光刻機的分辨率就越高，拿EUV光刻機來講，雖然同樣是13.5nm的光，但數值孔徑不一樣，技術就不一樣，到目前也發展到第三代了。

而浸潤式DUV光刻機，也同樣是發展了好多代了，其分辨率不一樣，能造的芯片工藝也不一樣，但ASML賣給中國的，卻是較為老舊的型號，新的型號，一直沒有賣給中國。

這不是讓很多人很尷尬么，原來我們自己的光刻機，落后ASML這么多，別人拿出10年前的舊的光刻機，都比我們自己的要強。

當然，關于禁令，富凱也提到了自己的觀點，他認為不能一味的封鎖，因為中國一個14億人的大國，必須要謀求技術進步，不會接受被卡脖子的，封鎖太狠了，就會逼出中國自研來。

所以他認為，對中國出口光刻機，應該尋求一個微妙的平衡點。

什么叫微妙的平衡點呢，他也解釋了，其實就是傾銷和技術封鎖那一套，賣給中國的光刻機，不能太先進了，這樣就能夠拖慢中國技術進步的速度。

但同時，又不能太落后了，還是要比中國自己研發的先進一點點，這樣中國就會購買ASML的光刻機，這樣就可以維持中方對西方技術的依賴。

這個思想也是與黃仁勛、比爾蓋茨的想法差不多，不能給太好的，只要比中國自己有的先進一點就行，這樣既能打壓對方自主研發，又能銷售產品，這才是最好的解決方案。

可見，落后就要挨打是真理，如果中國有自己的先進的光刻機，ASML敢這么樣，如果中國有先進的AI芯片，美國又敢這樣么，正因為我們沒有，所以他們才能這么干。