ASML再出重拳，1000臺光刻機秒變“廢鐵”，不料我們留有后手

導讀：ASML再出重拳，1000臺光刻機秒變“廢鐵”，不料我們留有后手

荷蘭頒布光刻機新規之后，全球芯片行業受到震蕩。據路透社報道，在此次管制升級過程中，DUV設備的出口限制標準由7納米下調至14納米，并且管制范圍進一步擴大，像計算光刻軟件等處于敏感領域的配套技術也被“一刀切”地納入管制范圍。

新規頒布后，阿斯麥（ASML）公司的股價隨即下跌了8.2%。荷蘭方面雖再三以“經濟安全風險”作為說辭，但稍有判斷力的人都能夠清楚地認識到，這似乎是其配合美所上演的一出雙簧戲。

自2019年起，美國為遏制中國獲取高端芯片，向荷蘭施加壓力，要求其拒絕向中國出口用于生產7納米以下芯片的先進光刻機，企圖以此阻礙中國芯片產業的發展。

在多輪出口限制政策收緊之后，荷蘭與美國保持一致，將部分深紫外（DUV）光刻機納入出口許可清單范圍。

值得欣慰的是，國內相關廠商具備前瞻性的防范意識。僅在2023年11月，就從荷蘭鎖定了約42臺光刻機，交易金額超過81億美元。這批具有前瞻性布局的“先手”設備，至今仍保障著中芯國際等企業的正常生產運營。

遺憾的是，局勢急轉直下。2024年初，荷蘭再度收緊出口管制政策，將部分深紫外（DUV）機型納入管制范圍，甚至撤銷已獲批的出口許可。這一系列舉措致使我國高端芯片研發進程受阻，現有設備的維護以及備件供應亦面臨中斷風險。一旦設備出現故障，整條生產線極有可能陷入停擺狀態，價值高昂的設備屆時將淪為一堆廢鐵。

此類舉措不過是美國全方位設置障礙的一個縮影。更進一步而言，美國的這種遏制操作早已蔓延至人工智能、通信、生物科技等關鍵領域。在人工智能領域，美國限制采購中國的技術方案，打壓在美華人學者；在通信領域，美國封禁中國5G設備在美國市場的銷售，并向其盟友施壓，妄圖聯合圍堵中國通信產業。

然而，伴隨在關鍵領域接連取得攻關成果，美方的算計已難以繼續奏效。上實現28nm DUV光刻機的量產驗證，并攻克了13.5nm極紫外光源這一EUV光刻機的“心臟”技術，刻蝕等高難度設備的本土化率也提升至四成以上。

即便在其他相對薄弱的領域，中國亦在迅速實現趕超。通過算法的優化、開源生態的構建等舉措，像DeepSeek等國產模型已超越美國同類開源模型。市場表現也充分印證了國產技術的實力，當前，以華為等為代表的中國企業占據了全球電信設備市場41%的份額。

這些成績的取得并非一蹴而就。為攻克光刻機這一“卡脖子”難題，我國密集出臺相關政策，累計研發投入逾3.6萬億元，旨在實現全產業鏈條的自主可控。在此積極態勢的帶動下，ASML前光源技術負責人林楠、日本學者王興向朝等專業人才相繼歸國，推動極紫外（EUV）光源等關鍵技術邁向新的臺階。

我國光刻機領域正蓬勃發展，這一積極態勢正悄然改變著全球科技版圖。曾幾何時，阿斯麥（ASML）的高管們秉持著“他們造不出光刻機”的傲慢觀點。然而，如今他們的態度已有所轉變，開始表達“期待與中國合作”的意愿。市場數據清晰顯示，在2025年前5個月，阿斯麥在中國市場的訂單量同比大幅減少了60%。

有專家指出，即便面臨美國與荷蘭的聯合施壓，中國并非只能處于被動防御的境地，而是具備一定的反制能力。我們都知道，稀土是光刻機制造的關鍵要素。自中國收緊稀土相關技術的出口管制后，阿斯麥的光刻機交付已出現數周延遲。該公司也不得不承認，當前的局面使其發展受到了極大的制約。

實踐充分證明，通過技術封鎖來阻礙他國發展的做法不僅難以達到預期目的，反而會促使被封鎖國家加快突破技術瓶頸的速度。正如阿斯麥首席執行官傅恪禮所說：“你試圖阻止的人會更加努力取得成功，無論多少障礙都無濟于事。”

當前，中國在人工智能、生物技術等前沿領域正加速追趕西方，與西方的差距正在逐步縮小。高端人才的回流為科研事業注入了源源不斷的動力，推動整體突圍的步伐明顯加快。

反觀美國，阿斯麥出現產能閑置的情況，工廠調班近乎陷入半停擺狀態；OpenAI等科技巨頭與中方的技術差距正在迅速縮小；創新藥研發對中國的依賴程度也日益加深。

光刻機事件如同一個鮮明的警示，清晰地揭示出在核心科技領域，過度依賴他人最終只會使自己陷入困境。而中國選擇的是一條雖充滿挑戰，但更為安全可靠的自主創新之路。