等離子刻蝕機是一種利用等離子體進行薄膜微細加工的設備,在半導體制造等領域應用廣泛。其工作原理是通過射頻電源等將反應氣體電離形成等離子體,其中包含離子、電子、自由基等活性粒子。在電場作用下,離子加速撞擊晶圓表面,通過物理濺射或化學反應等方式去除材料,實現對晶圓上特定圖案的刻蝕加工。例如,在刻蝕硅材料時,常用的反應氣體有 CF?、SF?等,等離子體中的氟離子與硅發生反應,生成易揮發的 SiF?從而被去除。
結構組成:
- 反應腔室:是刻蝕反應發生的場所,通常由不銹鋼等材料制成,內部有電極、氣體分布裝置等,需保證良好的真空密封性。
- 射頻電源:用于產生高頻電場,激發反應氣體形成等離子體,其功率、頻率等參數可根據工藝需求調節。
- 氣體供應系統:負責精確控制反應氣體的種類、流量和壓力,確保刻蝕過程的穩定性和一致性。
- 真空系統:維持反應腔室的真空環境,減少氣體分子對等離子體的干擾,提高刻蝕精度。
- 晶圓傳輸與定位裝置:實現晶圓的自動傳輸、裝載和精確對準定位,保證刻蝕圖案的準確性
應用領域:
- 半導體制造:用于芯片制造中的光刻膠去除、硅刻蝕、介質刻蝕、金屬刻蝕等工藝,實現芯片的微觀結構加工,如刻蝕出晶體管、互連線路等結構中微半導體設備(上海)股份有限公司。
- 微機電系統(MEMS):可對硅、玻璃等材料進行刻蝕,制造微傳感器、微執行器、微光學元件等 MEMS 器件。
- 化合物半導體:如對 GaN、SiC 等化合物半導體材料進行刻蝕,用于制造高頻、高壓、高功率器件。
- 半導體照明:在 LED 芯片制造中,用于圖形化藍寶石襯底(PSS)刻蝕、芯片電極刻蝕等工藝。
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那么國內的等離子刻蝕機哪個品牌好?這里小編給大家推薦這十大品牌(排名不權威且不分先后),算是給這些優質品牌廠家推薦一下!
- 華儀行(北京)科技有限公司(CIF):CIF推出RIE反應離子刻蝕機,采用RIE反應離子誘導激發方式,實現對材料表面各向異性的微結構刻蝕。特別適合于大學,科研院所、微電子、半導體企業實驗室進行介質刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價比高,易維護,處理快速高效。適用于所有的基材及復雜的幾何構形進行RIE反應離子刻蝕。
- 北方華創:在電感耦合等離子體刻蝕機(ICP)方面,攻克了多項難題,實現了各技術節點的突破。
- 中微公司:刻蝕設備在客戶的生產線中廣泛應用,可滿足超高深寬比刻蝕等需求。
- 盛美上海:其濕法刻蝕設備使用化學藥液進行晶圓球下金屬層(UBM)的刻蝕工藝,可提供良好的化學溫度控制和刻蝕均勻性。
- 屹唐半導體:高速干法刻蝕技術適配 3D NAND 堆疊,隨著晶圓廠擴產,訂單年增 50%。
- 中電科:專注于軍工級刻蝕設備,具有自主可控的技術。
- 創世威納:采用紫外固化技術降低光刻膠依賴,在泛半導體領域有成熟的定制化方案。
- 芯源微:在刻蝕機方面也有一定實力。
- 至純科技:中芯國際、華虹等提供服務,同時在光伏與半導體雙賽道協同發展。
- 金盛微納:在 MEMS 傳感器刻蝕方面較為專精。
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