俄羅斯自研350納米光刻機

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3月18日消息，據(jù)俄羅斯國家工業(yè)信息系統(tǒng)最新目錄顯示，由澤列諾格勒納米技術(shù)中心自主研發(fā)的新型光刻系統(tǒng)已正式納入國家工業(yè)設(shè)備名錄。

這臺型號為RAVC.442174.002TU的設(shè)備，標志著俄羅斯在構(gòu)建獨立半導(dǎo)體制造生態(tài)系統(tǒng)、打破西方技術(shù)封鎖上，邁出了從“實驗室研發(fā)”到“工業(yè)化部署”的實質(zhì)性一步。

此次入列的光刻系統(tǒng)是一款對準和投影曝光裝置，其核心指標為350納米（0.35微米）分辨率。雖然這一制程節(jié)點與當(dāng)前全球最先進的3納米或5納米工藝相比顯得“古老”，但在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的宏大版圖中，它絕非無用之物。

光刻技術(shù)作為芯片制造的“心臟”，負責(zé)將電路圖案精準投射到硅晶圓上。該設(shè)備采用365納米波長的i線紫外光源，可處理直徑達200毫米的標準晶圓，對準精度控制在90納米左右。這些參數(shù)表明，該系統(tǒng)完全具備量產(chǎn)工業(yè)級芯片的能力，能夠廣泛應(yīng)用于電源管理、汽車電子、航空航天控制及各類嵌入式系統(tǒng)。

據(jù)悉，該設(shè)備項目于2021年啟動，由俄羅斯工業(yè)和貿(mào)易部資助，是ZNTC與白俄羅斯知名半導(dǎo)體設(shè)備制造商Planar深度合作的成果。

面對西方國家日益嚴苛的出口管制，尤其是ASML、尼康等巨頭對俄禁運高端光刻設(shè)備，俄羅斯選擇了一條務(wù)實的“進口替代”路線。

GISP目錄的收錄不僅僅是一個行政程序，更是一張通往國內(nèi)市場的“通行證”。根據(jù)俄羅斯的國家戰(zhàn)略，政府機構(gòu)及國有企業(yè)在采購設(shè)備時將優(yōu)先考慮名錄內(nèi)的國產(chǎn)產(chǎn)品。這意味著，這臺350納米光刻機將迅速進入俄羅斯國內(nèi)的晶圓廠，用于維持和擴大成熟制程芯片的產(chǎn)能，確保能源、交通、國防等關(guān)鍵領(lǐng)域的供應(yīng)鏈安全。

業(yè)界分析指出，盡管350納米工藝無法制造智能手機處理器或高性能GPU，但現(xiàn)代工業(yè)體系對這類“成熟制程”芯片的需求量巨大且穩(wěn)定。電動汽車的功率器件、工業(yè)機器人的控制芯片、甚至導(dǎo)彈制導(dǎo)系統(tǒng)中的抗輻射元件，往往不需要極致的微縮化，而更看重可靠性、耐久性和供應(yīng)的穩(wěn)定性。俄羅斯此舉正是抓住了這一痛點，試圖在無法觸及尖端邏輯芯片的情況下，先守住工業(yè)電子的底線，避免關(guān)鍵基礎(chǔ)設(shè)施因“缺芯”而停擺。

ZNTC方面透露，在350納米設(shè)備成功量產(chǎn)的基礎(chǔ)上，下一代研發(fā)目標已鎖定在130納米節(jié)點。若能攻克這一技術(shù)關(guān)口，俄羅斯國產(chǎn)芯片的適用范圍將進一步擴大，覆蓋更多復(fù)雜的通信和計算需求。

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