雖然大家將28nm芯片工藝,認為是先進芯片與成熟芯片的分界線,28nm以下的芯片統一稱之為先進芯片。
但事實上,至少國內大部分人認為,7nm及以下的芯片,才能真正算做先進芯片,而7nm以上的芯片,比如10nm、16nm、22nm等等,都算是成熟芯片。
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而說真的,在7nm及以下的先進芯片上,因為美國的設備限制,特別是不準EUV光刻機賣給我們,連先進的浸潤式DUV都受限,還卡住了其它的一系列先進的半導體設備,我們確實產能不夠。
按照之前媒體的報道,目前在7nm及以下的先進芯片上,我們的實際產能,或只有2萬片晶圓每月,并且這些產能,全部集中在中芯國際這里,其它廠商,完全就沒有7nm及以下芯片的制造能力。
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不過,隨著中國芯片產業的不斷前進,以及芯片設備、相關技術不斷突破,接下來中國先進芯片(7nm及以下)的產能,會不斷的提升。
按照外媒的說法,未來一到兩年之內,中國的目標是將先進制程晶圓月產量從2萬片,提升至10萬片(增長5倍),而到2030年前,達到50萬片的月產能,相當于增長25倍。
而這些產能的增長,會大大提升中國本土的AI芯片競爭能力,因為中國的AI芯片一旦有了足夠的產能,那么就可以迅速的進行國產替代,從而讓英偉達的芯片徹底的失去市場。
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當然,這只是外媒體的猜測,不一定準確,但是中國在努力的發展先進芯片產能,這是一定的,至于能不能在5年內,提升25倍,就不太好說了。
當前真正卡住我們先進芯片產能的,主要還是一些半導體設備,特別是光刻機這些,雖然理論上用浸潤式DUV光刻機,也能制造7nm、5nm甚至3nm芯片,但是多次曝光后,就會影響到良率,進而影響到效率,成本等,且還有較高的技術門檻,提高成熟芯片產能容易,但要提高先進芯片產能,可真沒有那么簡單。
但不管怎么樣,我們發展先進芯片的決心不會變,因為只有自己能大規模的生產先進芯片,才能不怕被卡脖子。
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