大家都知道,在芯片制造過程中,芯片設備是至關重要的,且目前美國對中國芯片產業進行打壓,主要也是針對設備。
比如EUV光刻機,高端的浸潤式DUV光刻機,美國都不準ASML賣給中國,還有涉及到14nm及以下的其它設備,也同樣不允許國外的企業賣給中國。
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那么問題就來了,這么多芯片設備,中國最強的是哪一種,最弱的又是哪一種呢?
從目前的情況來看,最強的應該是刻蝕機了,因為它至少達到了3nm的水平。
國內最強的刻蝕機廠商,應該是中微公司,在全球芯片設備市場,中微公司目前排在第13位,而在技術方面,中微公司的水平至少是達到了3nm,甚至有可能是達到了2nm。
早在幾年前,中微公司就打入了臺積電的供應鏈,說明中微公司的刻蝕機,是全球領先且可靠的,否則臺積電不會采用它的。
更重要的是,中微公司目前在零部件上,實現了100%的國產化,根本就不用擔心國外不供應零部件,完全實現了自主可控。
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而最弱的則是光刻機了,國內知名的光刻機公司是上海微電子,之前公布的光刻機技術還只達到90nm,還屬于ArF光刻機的范疇,沒有達到ArFi,也就是浸潤式DUV光刻機的水平。
如果對照ASML的話,至少落后10年以上,所以光刻機,應該是技術相當最弱的。
這也是為何美國要卡住我們光刻機的原因,因為自己的實在落后太多,脖子一卡一個準,完全不可能實現國產替代。
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我們知道,芯片制造設備,其實是遵循木桶理論的,即哪一樣的技術最弱,那么哪一樣就決定了我們的最強水平。
所以如果我們不能采用進口設備,只能使用國產設備的話,那么決定國產芯片最高工藝的,并不是刻蝕機,而是光刻機。
所以國產芯片設備,特別是光刻機,還是非常長的一段路要走,否則很難擺脫被卡脖子的命運,你覺得呢?
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