湖南
光刻機對芯片的重要性，相信關注芯片產業的人都清楚，那真的是至關重要的。
而目前全球的光刻機格局，大家也清楚，ASML一家獨大，佳能技術一般般，但憑借成熟工藝設備，市場份額倒是排在第二名，再是尼康，再是上海的微電子。
從技術上來看，ASML獨霸全球，再是尼康，再是佳能、上海微電子。
上面這個圖，是非常明顯的，展示了當前的市場格局，技術分層等情況。可以看到，不管是從市場來看，還是從技術來看，國產光刻機廠商上海微電子，和前面的廠商，還是有距離的。
不過，雖然有差距，但也證明提升的空間非常大，只要上海微電子多努力，那么發展將是迅速的。
近日，有機構統計了2025年全球前30大半導體設備廠商，我們發現上海微電子，經過這幾年的努力，已經沖到了全球第20名。
如上圖所示，目前全球前20名，中國大陸只有三家企業上榜，而上海微電子排在第20名，也是上榜的企業之一，也是國內唯一的光刻機整機廠。
為何能夠成為全球前20名，是因為上海微電子這幾年發展迅速，雖然技術與ASML有一定的差距，但也在慢慢的追上來了，目前已經達到了干式DUV的水平，也就是ArF的水平。
雖然在前道光刻機上有差距，但上海微電子在后道光刻機這一塊，是非常強的，后道光刻機也就是封裝光刻機，相對而言，對分辨率工藝要求沒有那么的高，每年出貨量幾百臺。
并且后道光刻機方面，已被國內眾多的封測企業采用，大批量的訂購，所以上海微電子能夠殺進全球前20名。
按照媒體的說法，目前上海微電子的光刻機，離浸潤式光刻機，已經只有一步之遙了，因為干式DUV，與浸潤式DUV，光源相同，工作臺也相同，差的只是一套浸潤式系統，這套系統就是在工作臺前，有一層水為介質。
目前國內很快就會突破這一技術，而一旦進入浸潤式光刻機領域，那么國產光刻機，將全面崛起，不必看ASML的臉色了，因為浸潤式光刻機，也是能夠支持到5nm，甚至3nm芯片的。
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