只差光刻技術(shù)了！日媒：中國(guó)將成日荷后，第三個(gè)造光刻機(jī)的國(guó)家

全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)長(zhǎng)期由少數(shù)玩家主導(dǎo)，荷蘭阿斯麥公司掌握高端極紫外光刻機(jī)，日本尼康和佳能則在中低端領(lǐng)域占優(yōu)。中國(guó)企業(yè)起步晚，但近年來(lái)加速追趕。

2025年7月，日本媒體《日經(jīng)亞洲》刊文指出，中國(guó)在囤積進(jìn)口設(shè)備的同時(shí)，正大力開(kāi)發(fā)本土技術(shù)，可能很快成為繼荷蘭和日本之后，第三個(gè)能獨(dú)立制造光刻機(jī)的國(guó)家。

這篇文章基于中國(guó)在測(cè)量和沉積等環(huán)節(jié)的突破，分析封鎖如何反推創(chuàng)新。

美國(guó)從2019年起加強(qiáng)出口管制，針對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備實(shí)施審查，荷蘭和日本隨后跟進(jìn)。2020年，管制擴(kuò)展到特定企業(yè)如華為，限制深紫外設(shè)備供應(yīng)。

2023年，日本列出23種設(shè)備需審批，荷蘭也強(qiáng)化高端禁售。中國(guó)進(jìn)口額一度激增，2024年從荷蘭采購(gòu)占比高達(dá)49%，但本土自給率目標(biāo)已設(shè)為50%。

這些措施雖延緩進(jìn)度，卻促使中國(guó)加大研發(fā)投入。

上海微電子作為主力，已推出90納米設(shè)備，并在2025年進(jìn)入量產(chǎn)測(cè)試。28納米機(jī)型關(guān)鍵部件國(guó)產(chǎn)率超85%，聚焦193納米氬氟光源。團(tuán)隊(duì)通過(guò)分析進(jìn)口機(jī)結(jié)構(gòu)，優(yōu)化光學(xué)路徑，提高效率。

2024年，光刻膠自給率從15%升至32%，預(yù)計(jì)2025年破40%。南大光電和彤程新材在氬氟和氪氟膠上逐步打破日本壟斷。

日媒報(bào)道強(qiáng)調(diào)，光刻門(mén)檻高，需要精密光學(xué)和真空系統(tǒng)整合。中國(guó)利用市場(chǎng)規(guī)模，支持供應(yīng)商轉(zhuǎn)向本土件，避免依賴(lài)。阿斯麥控制5000多家供應(yīng)商，但中國(guó)產(chǎn)業(yè)鏈整合已覆蓋類(lèi)似部件。

2025年，中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口下降，本土產(chǎn)量上升，顯示自給能力增強(qiáng)。日本出口額近200億美元，卻面臨不確定性。

2025年12月，報(bào)道顯示中國(guó)EUV原型機(jī)在深圳測(cè)試，由前阿斯麥工程師逆向工程完成。這標(biāo)志高端領(lǐng)域差距縮小，雖未量產(chǎn)，但已進(jìn)入壓力測(cè)試階段，計(jì)劃2026年目標(biāo)量產(chǎn)3納米級(jí)別。

荷蘭禁售EUV后，中國(guó)轉(zhuǎn)向深紫外多重曝光工藝，彌補(bǔ)短板。

日本企業(yè)擔(dān)憂(yōu)市場(chǎng)份額流失，尼康和佳能專(zhuān)注中低端，但中國(guó)市場(chǎng)可能改寫(xiě)格局。

2023年，日本CEO曾稱(chēng)中國(guó)難造EUV，三年后態(tài)度轉(zhuǎn)變，承認(rèn)中國(guó)潛力。全球僅三家能產(chǎn)光刻機(jī)，中國(guó)若突破，將重塑供應(yīng)鏈平衡。

中國(guó)半導(dǎo)體協(xié)會(huì)組織會(huì)議，推動(dòng)高校參與研發(fā)，提供獎(jiǎng)學(xué)金吸引人才。2025年，投資數(shù)百億元建聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室，專(zhuān)注蝕刻和封裝。

阿斯麥報(bào)告顯示，對(duì)華銷(xiāo)售占比降，但中國(guó)市場(chǎng)仍關(guān)鍵。工程師用模擬軟件測(cè)試光源穩(wěn)定性，減少實(shí)際依賴(lài)。

管制導(dǎo)致價(jià)格波動(dòng)，中國(guó)市場(chǎng)支持迭代試錯(cuò)。

2025年9月，報(bào)告指出技術(shù)差距雖存，但深紫外領(lǐng)域國(guó)產(chǎn)化加速。中國(guó)目標(biāo)實(shí)現(xiàn)全流程覆蓋，供應(yīng)商網(wǎng)絡(luò)擴(kuò)展到精密鏡頭。軍事應(yīng)用優(yōu)先，確保情報(bào)安全。

荷蘭市場(chǎng)份額79%，日本17%，中國(guó)企業(yè)低調(diào)推進(jìn)，避免刺激。2025年，臺(tái)積電從中國(guó)生產(chǎn)線(xiàn)撤工具，避地緣風(fēng)險(xiǎn)。日本媒體從否定轉(zhuǎn)為認(rèn)可可能，上海項(xiàng)目穩(wěn)步優(yōu)化。

產(chǎn)業(yè)鏈上游材料優(yōu)化，光刻膠國(guó)產(chǎn)率提升明顯。企業(yè)引導(dǎo)下游用本土工具，減少風(fēng)險(xiǎn)。2024年，企業(yè)投資擴(kuò)實(shí)驗(yàn)室，精密光學(xué)成重點(diǎn)。日媒引發(fā)關(guān)注，分析政策如何引導(dǎo)供應(yīng)商。

2025年，中國(guó)性能芯片不受限，迫使部分管制放松。產(chǎn)業(yè)鏈整合完成，光源到封裝全覆蓋。日本擔(dān)憂(yōu)營(yíng)收根基動(dòng)搖，阿斯麥策略調(diào)整。

投資增長(zhǎng)，2025年報(bào)告顯示高端需努力，但自給增強(qiáng)。荷蘭、日本競(jìng)爭(zhēng)加劇，出口微調(diào)。中國(guó)規(guī)模擴(kuò)大，格局調(diào)整。

這事反映出技術(shù)封鎖的“雙刃劍”效應(yīng)，中國(guó)工程師埋頭干活，幾年間就把差距拉近。日媒的報(bào)道，算是承認(rèn)現(xiàn)實(shí)了。

全球半導(dǎo)體多極化趨勢(shì)明顯，中國(guó)成為一極。荷蘭、日本企業(yè)得適應(yīng)新平衡，避免市場(chǎng)流失。中國(guó)光刻突破不遠(yuǎn)，靠的是政策和市場(chǎng)雙輪驅(qū)動(dòng)。

參考資料：

1、國(guó)產(chǎn)浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)，真的只差最后一步了 互聯(lián)網(wǎng)亂侃秀 2025-09-25

2、ASML CEO警告：過(guò)度封鎖或加速中國(guó)技術(shù)自主 新浪財(cái)經(jīng) 2025年12月16日