國產光刻膠攻堅提速，2026年有望爆發！揚帆新材等企業領跑突圍

近期，半導體板塊震蕩拉升，半導體設備、半導體材料等細分領域表現活躍。消息面上，工信部近日透露了國產光刻膠最新進展，引發市場的高度關注。

據工信部介紹，一款用于裝載光刻膠的玻璃瓶已攻克重大技術難關。該玻璃瓶能確保光刻膠在運輸和保管儲藏過程中不受污染、不受影響，這一突破終結了我國光刻膠行業長期以來幾乎100%依賴進口的局面。

事實上，不僅是成品光刻膠，就連生產它的原材料，我國也嚴重依賴進口。比如光引發劑這種核心材料，前幾年國內依賴度一度超過95%。

半導體制造的“隱形基石”

據了解，光刻膠在半導體制造、顯示器面板和印刷電路板（PCB）制造等精密微細加工領域扮演著十分重要的角色。光刻膠通過光照圖案化，使得特定區域發生化學變化，從而實現電路或器件結構的轉移。

作為集成電路制造過程中的核心材料，光刻膠決定了芯片的精密程度和生產的良率。由此可見，光刻膠在半導體產業鏈中占據著重要位置。

按照曝光波長的不同，光刻膠可以進一步被細分為G線光刻膠（436nm）、I線光刻膠（365nm）、KrF光刻膠（248nm）、ArF光刻膠（193nm）以及EUV光刻膠（13.5nm）。隨著光刻技術的演進，光刻膠的工藝也需要持續升級，來匹配更短波長的光源需求，設計新的聚合物體系，來降低光吸收率并提升對光的敏感度。

在全球光刻膠市場中，美日企業長期占據著主導地位。在高端半導體光刻膠市場，日本企業更是占據著約80%的壓倒性份額。

多點突破釋放增長活力

近年來，我國在政策端持續發力，推動光刻膠國產化進程。據悉，國家集成電路產業投資基金三期規模達到1600億元，其中約18%的資金投向光刻膠等半導體材料領域。上海等地還出臺了針對性的補貼政策，對晶圓廠采購國產光刻膠給予10%的補貼。

相關數據顯示，國內企業已攻克23項ArF光刻膠的關鍵技術，產品良率穩定在92%以上。據媒體報道，在國內市場上，KrF光刻膠的自給率正在向50%沖刺。14nm FinFET工藝所需的ArF光刻膠已經通過客戶驗證，成本相比進口產品低15%左右。

具體到企業層面，揚帆新材（300637.SZ）以巰基化合物作為公司平臺物，深耕該領域并向下延伸開發出以907為代表的光引發劑系列產品。經過多年積累，該公司已發展成為全球光引發劑和巰基化合物的主要生產供應商之一。

近年來，揚帆新材以含磷阻燃劑為突破口，向含磷精細化學品領域進行戰略拓展。目前，揚帆新材已在浙江上虞和內蒙古設立了光引發劑生產基地，907、184、1173、TPO、369、379、ITX、BMS等多種產品規模化落地，供應鏈韌性進一步凸顯。2025年前三季度，揚帆新材實現營收6.77億元，同比增長36.56%，歸母凈利潤為3065萬元，同比扭虧為盈。

揚帆新材在2025年半年報中指出，伴隨著光引發劑下游PCB、涂料等行業逐漸復蘇，對其需求量逐漸增加，光引發劑產品價格實現緩慢抬升，公司持續加強營銷團隊力量配合靈活的銷售策略，實現光引發劑的市場份額穩中有增。去年上半年，光引發劑的價格總體緩慢抬升，銷售量同比有所增長。

除揚帆新材外，南大光電（300346.SZ）、飛凱材料（300398.SZ）等企業也持續加大研發投入，積極推動光刻膠國產化進程。其中，南大光電在互動平臺表示，公司一方面積極推進光刻膠產品驗證工作，另一方面緊抓工藝穩定和市場拓展，加速光刻膠項目產業化進程；飛凱材料表示，公司產品主要集中在i-line光刻膠及KrF光刻配套Barc材料光刻膠。相關產品已實現穩定量產，并獲得下游客戶的驗證與使用。

晶圓產能釋放驅動光刻膠需求增長

值得一提的是，近年來國內晶圓廠的擴產計劃直接拉動了光刻膠的市場需求。根據業內測算，每生產1萬片12英寸晶圓就需要消耗約5噸光刻膠。2025年，國內12英寸晶圓產能預計達到每月120萬片，這意味著光刻膠需求量將突破6000噸。

展望后市，隨著國內領先企業在ArF、KrF光刻膠領域實現從技術突破到規模化量產的關鍵跨越，市場預期在政策與需求雙輪驅動下，國產光刻膠替代進程將大幅提速。業內預計，2026年國產光刻膠有望迎來爆發年。

從A股市場看，隨著政策紅利持續釋放，有望推動光刻膠相關板塊估值修復，光大證券建議，可關注受益于技術創新驅動的公司，尤其是細分領域龍頭。