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前兩天,小編向大家分享了一個消息:臺積電起訴前高管羅維仁(Wei-Jen Lo),指控他在離職后加入英特爾涉嫌泄露商業機密。
近日,英特爾方面已正式回應英特爾公司首席執行官陳立武表示:“(臺積電方面所提出的)所有針對羅維仁博士的指控均無事實依據,英特爾將全力支持他加入公司。”
羅維仁事件在坊間發酵時間已久,這是陳立武自上任以來首次在臺積電前高管加盟爭議中點名力挺羅維仁,也被外界視為英特爾對這起訴訟的正式回應。
根據英特爾發給員工的內部信,陳立武強調,對于英特爾而言,羅維仁并非新人,他曾經在英特爾服務長達18年,長期負責晶圓制造與工藝技術研發,后于臺積電繼續從事相同領域工作,羅維仁此次再次加入英特爾是重返。
陳立武重申,英特爾擁有嚴格的合規政策與管控機制,明確禁止使用或轉移任何第三方機密信息及知識產權,“我們完全遵守法律與行業道德準則”。
針對外界最關切的“技術與知識產權轉移”質疑,英特爾方面認為,羅維仁帶來的最大價值在于其對全球半導體供應鏈尤其是美國客戶需求的深刻洞察,而非特定制程機密。
英特爾同時指出,其18A、14A等未來節點廣泛采用PowerVia背面供電、RibbonFET全環繞柵極晶體管以及High-NA EUV高數值孔徑光刻等技術,與臺積電現行技術路徑存在明顯差異,雙方工藝路線早已分道揚鑣,因此,不存在所謂的“技術與知識產權轉移”。
但是,這只是英特爾單方面的看法,目前,臺積電已在美國加州高等法院正式對羅維仁提起訴訟,指其掌握多項先進制程核心機密,若跳槽英特爾恐造成不可挽回的商業損害,并可能使英特爾在節點競賽中獲得不正當優勢。臺積電同時向法院申請禁制令,要求禁止羅維仁在英特爾擔任任何與制程技術、晶圓制造相關的職務。
目前該案件仍處在司法程序的早期階段,法院尚未就是否頒布臨時禁制令作出裁決。無論結果如何,這起訴訟都已將美臺半導體產業最核心的競爭與信任問題推到聚光燈下,后續進展勢必持續牽動全球芯片行業神經。
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