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3月30日晚間,國產半導體設備龍頭中微公司披露的2025年度財報顯示,公司全年實現營業收入123.85億元,同比增長36.62%,創下歷史新高;歸母凈利潤21.11億元,同比增長30.69%。
中微公司還發布2026年限制性股票激勵計劃草案,擬授予不超過820萬股,授予價為200元/股,激勵對象不超過3061人,占公司總人數97%。此外,公司擬向全體股東每10股派發現金紅利3.50元(含稅),并以資本公積金每10股轉增4.9股。
刻蝕設備營收占比近80%,薄膜設備營收暴漲224.23%
從業務結構看,刻蝕設備仍是中微公司的核心收入來源。2025年,刻蝕設備銷售額約98.32億元,同比增長35.12%,收入占比接近80%。截至2025年底,公司刻蝕設備反應臺全球出貨量超過6800臺,應用范圍覆蓋65納米至3納米及更先進制程的各類刻蝕場景,在國內主要客戶芯片生產線的市占率持續穩步提升。
值得關注的是,公司自主研發的CCP高能等離子體刻蝕設備和ICP低能等離子體刻蝕設備已實現對95%以上的300多種刻蝕應用需求的覆蓋。其中,60比1超高深寬比刻蝕設備在存儲器生產線上實現穩定可靠的大批量生產,使中微公司成為國內極少數能夠全面覆蓋存儲器刻蝕應用中各類超高深寬比需求的供應商。
薄膜沉積設備業務在2025年迎來爆發式增長,全年營收約5.06億元,同比增長224.23%,成為驅動中微公司業績增長的重要新引擎。公司LPCVD設備累計出貨量突破300個反應臺,為先進存儲器件和邏輯器件開發的LPCVD和ALD等十多款導體和介質薄膜設備已順利進入市場。此外,公司MOCVD設備累計出貨量超600腔,Micro-LED用新型MOCVD設備訂單超1億元。
從營收的區域來源看,中國大陸市場貢獻了主要增量。2025年,中微公司大陸地區營業收入同比增長40.07%至120.58億元,收入占比超過97%。相比之下,中國臺灣地區及其他國家和地區收入同比下滑,分別下降31.63%和21.59%,一定程度上反映出海外市場拓展面臨的挑戰。
經營活動現金流方面,2025年公司經營性現金流凈額達22.95億元,同比增長57.39%,主要系銷售回款能力同步提升。截至2025年末,公司存貨71.7億元、合同負債30.44億元,新接訂單持續向好。
研發投入再創新高,超20款新設備在研
2025年,中微公司研發投入達37.44億元,同比增長52.8%,占營業收入比重超過30%,遠高于科創板上市公司10%-15%的平均水平。其中,研發費用24.75億元,同比增長74.61%,主要用于耗用原材料、職工薪酬及股份支付費用的增加。
高強度的研發投入推動產品迭代速度顯著提升。財報披露,目前中微公司正在推進六大類、超20款新設備的研發工作,涵蓋新一代CCP高能等離子體刻蝕設備、ICP低能等離子體刻蝕設備、晶圓邊緣刻蝕設備、LPCVD及ALD薄膜設備、硅和鍺硅外延EPI設備、新一代等離子體源的PECVD設備、CuBS PVD超多反應腔集成設備、電子束量檢測設備、大平板設備以及多款新型MOCVD設備等。
截至2025年底,中微公司研發人員數量達1548人,同比增長30.08%,研發人員占公司總人數的比例提升至52.24%。研發人員中碩士及以上學歷占比達57.88%。
收購杭州眾硅,向平臺化公司邁進
2025年底,中微公司發起對杭州眾硅的收購,標志著公司向“集團化”和“平臺化”邁出關鍵一步。3月30日晚間,中微公司發布發行股份及支付現金購買資產并募集配套資金的報告草案,收購杭州眾硅64.69%股權的交易價格達15.76億元。
杭州眾硅是國內少數有能力批量供應12英寸CMP(化學機械拋光)設備的國產設備廠商,已切入國內知名先進存儲廠商和邏輯芯片制造廠商,產品性能和技術指標已接近國際先進水平。本次交易完成后,中微公司將具備“刻蝕+薄膜沉積+量檢測+濕法”四大前道核心工藝能力,成功實現從“干法”向“干法+濕法”整體解決方案的關鍵跨越。
展望未來,中微公司表示,隨著人工智能、云計算、自動駕駛等新興應用加速落地,芯片制造向更先進制程邁進,刻蝕、薄膜沉積、量檢測等核心集成電路高端設備的需求持續升溫。公司將緊抓行業發展機遇,持續鞏固在集成電路關鍵設備領域的核心競爭力,向技術領先的高端設備平臺化集團公司穩步邁進。
編輯:芯智訊-林子
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