近日,有機構公布了2025年全球前30大半導體設備企業。
這Top30中,中國大陸的企業上榜了5家,前20名中上榜了3家,前10名中上榜了1家。
這5家企業分別是北方華創,中微公司、上海微電子、盛美上海、華海清科,分別位列全球第五名、第13名、第20名、第23名、第24名。
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這些企業主營的也不太一樣,北方華創主營刻蝕機、CVD、清洗機等,而中微公司主營就是刻蝕機,上海微電了主營是光刻機。
很多人稱,隨著中國企業在半導體設備這一塊持續發力,未來該美國擔心了,因為再也打壓不住了,中國芯片產業將崛起了。
當然,這個說法肯定是對的,但我覺得,美國最擔心的,還是中國研發出EUV光刻機,只有EUV光刻機研發出來,全球芯片產業才會洗牌,如果不研發出EUV,那么形勢還是很嚴峻的。
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目前,全球所有的大規模的芯片制造,均是基于光刻工藝,其它的一些方式方法,都只是小規模的試驗性的方式,比如NIL,EBL等等。
而光刻工藝,就離不開光刻機。從當前的情況來看,進入7nm之下,雖然說浸潤式光刻機也行,但實際上還是需要EUV光刻機的。
浸潤式只是理論上,還需要多重曝光,會導致良率大跌,同時成本大增,所以用浸潤式來制造7nm芯片,還能勉強一下,但制造7nm之下,就非常困難了。
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如果不能制造5nm及以下的芯片,那么在先進芯片這一塊,就會受到影響,那么美國的先進芯片,在全球就依然是沒有對手,那么美國就可以利用先進芯片來影響到全球的芯片格局。
估計很多人會說,成熟芯片占比更高,用更多數量的成熟芯片來堆疊之類的,也能夠達到先進芯片的功能,但是如果在一些小體積的,要控制發熱,功耗的地方,怎么多更多的成熟芯片來堆疊?
所以,制造出先進芯片,依然是影響全球芯片產業的格局的唯一辦法,一旦制造不出來,那么美國持續打壓就會持續有效,只有當我們能制造了,形勢才會徹底扭轉,而這一切就在于EUV光刻機。
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當然,到現在全球Top30的半導體設備廠商,我們已經有了5家,進步很大,且上海微電子能夠排在第20名,也是中國光刻機廠商,說明其實力越來越強,所以EUV光刻機,也是遲早的事情。
這個也確實是如此,但是大家都希望越快越好,畢竟光刻機這一塊,我們還是落后太多了。
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