美研究員：中國企業(yè)不但囤積ASML的光刻機，而且還聘請ASML員工開發(fā)國產(chǎn)設(shè)備

據(jù)美國戰(zhàn)略與國際研究中心研究員格雷戈里·C·艾倫表示，中國科技公司已聘請ASML員工開發(fā)國產(chǎn)的光刻機設(shè)備，但整體進度仍然處于落后狀態(tài)。

隨后艾倫補充表示，在美國禁令生效之前，中國企業(yè)與ASML緊急簽訂了采購協(xié)議，囤積了ASML部分老款光刻機，以便繼續(xù)制造那些不太先進的芯片。

美國經(jīng)濟歷史學(xué)家、外交政策研究院主任克里斯·米勒在個人作品《Chip War》中指出，先進的光刻機設(shè)備是人類迄今為止創(chuàng)造過的最復(fù)雜的工業(yè)機器，其供應(yīng)鏈企業(yè)遍布全球，包括了歐洲、美國、亞洲在內(nèi)的5100家企業(yè)。

涉及學(xué)科復(fù)雜，包括材料學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)、機械制造、設(shè)計光學(xué)等各類科學(xué)技術(shù)。

ASML的成功依托于全球資源體系的支持，并且服務(wù)于全球范圍內(nèi)的客戶群體。

美國的對華限制讓ASML中國區(qū)業(yè)務(wù)出現(xiàn)不穩(wěn)定因素，先封鎖了中國企業(yè)在2018年采購的EUV光刻機，隨后又接連封鎖了浸潤式光刻機的出口，這極大刺激了中國本土設(shè)備企業(yè)，讓中國自主技術(shù)設(shè)備迎來了大規(guī)模的集中發(fā)展。

ASML前CEO與現(xiàn)任CEO紛紛在接受采訪時指出，已經(jīng)知曉中國企業(yè)在開發(fā)先進的國產(chǎn)光刻機設(shè)備這件事，這完全合情合理。

中國是一個14億人口的大國，作為一個世界上最大的經(jīng)濟體，中國企業(yè)絕對不會接受在關(guān)鍵技術(shù)上面被別人卡脖子的困境，美國試圖阻止中國發(fā)展科技，那么中國就會更加努力地取得成功。

在先進芯片和EUV光刻機受到封鎖之后，中國企業(yè)積極采取備選技術(shù)方案，通過可采購到的ASML浸潤式光刻機以及自對準多重圖案化技術(shù)制造國產(chǎn)7nm芯片。

該技術(shù)需要光刻機一次曝光，然后經(jīng)過兩次沉積-刻蝕工藝的交替實現(xiàn)晶體管半間距的縮短，以此來達到等效7nm工藝的特性。

這種技術(shù)雖然可以制造7nm芯片，但是其能效、性能、良品率、成本均無法與先進的EUV技術(shù)相比。

在積極解決先進芯片卡脖子的困境時，中國企業(yè)還在持續(xù)推進國產(chǎn)化設(shè)備的技術(shù)進度。

2024年我國工信部公布了兩臺光刻機設(shè)備，一臺KrF一臺ArF。最先進的ArF設(shè)備已經(jīng)具備了65nm分辨率，可以實現(xiàn)65nm—40nm的芯片制造。

雖然只是兩臺干式光刻機設(shè)備，但對于我國之前90nm的設(shè)備來說技術(shù)進步明顯。

ASML中國區(qū)總裁沈波此前在中國進博會上對媒體表示，從1988年ASML將第一臺設(shè)備運送到中國至今，中國大陸地區(qū)包括光刻機以及測量臺在內(nèi)的設(shè)備數(shù)量達到了1400臺左右。

這些ASML的設(shè)備，一部分被拿去生產(chǎn)等效工藝為7nm的先進芯片，另一部分被用于制造28nm、14nm工藝的成熟芯片，這些成熟工藝的芯片被廣泛應(yīng)用于汽車、工業(yè)控制、物聯(lián)網(wǎng)、消費電子等領(lǐng)域，占全球總市場需求的60%以上。

大規(guī)模囤貨確保了在未來可能完全斷供的情況下，中國龐大的制造業(yè)基礎(chǔ)不至于因缺少設(shè)備而停擺，為經(jīng)濟安全構(gòu)筑了關(guān)鍵防線。

據(jù)ASML財報顯示，2023年至2025年，中國市場為其貢獻的總銷售占比極高，某些季度一度達到了40%以上的規(guī)模占比。

依靠ASML設(shè)備形成的制造產(chǎn)業(yè)鏈，是整個全球芯片制造業(yè)的技術(shù)標準，同時也是中國國產(chǎn)光刻膠、鏡頭、工作臺等設(shè)備材料相對比的模板。

研發(fā)團隊可以將國產(chǎn)部件接入現(xiàn)有產(chǎn)線進行測試，對比其與進口原件的性能差距，從而獲得最直接的反饋數(shù)據(jù)進行迭代優(yōu)化。

ASML的設(shè)備能達到現(xiàn)在這么穩(wěn)定的水平，也是經(jīng)過了長時間的技術(shù)調(diào)試與大量的數(shù)據(jù)信息當做參考。依照ASML的標準進行國產(chǎn)技術(shù)的優(yōu)化，這要比閉門造車效率高得多。

如今來自于美國的外部壓力，已經(jīng)迫使中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)從單點突破轉(zhuǎn)向系統(tǒng)發(fā)展。

在刻蝕、沉積、清洗、檢測等多個設(shè)備領(lǐng)域，北方華創(chuàng)、中微公司等本土廠商已加速進入主流產(chǎn)線，芯上微裝等本土光刻機企業(yè)也正在有條不紊的推動技術(shù)進步。

中國企業(yè)依靠內(nèi)需市場以及前幾年所囤積的進口設(shè)備，正在成熟制程領(lǐng)域形成規(guī)模優(yōu)勢和成本優(yōu)勢。

這不僅能滿足內(nèi)需，還可能以更具競爭力的價格參與全球市場，從而在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的基本盤中占據(jù)主導(dǎo)地位，削弱傳統(tǒng)巨頭的利潤基礎(chǔ)，為向高端進軍積累資本和市場話語