臺積電2nm泄密案下月宣判，工程師面臨重判！

臺積電離職工程師陳力銘、在職工程師吳秉駿、戈一平因涉嫌泄露關鍵技術，被檢方以違反臺灣地區所謂“安全法”等罪名起訴。智慧財產及商業法院于昨日完成法庭辯論，案件定于4月27日宣判。此外，經查，陳力銘前年還涉嫌指使前臺積電工程師陳韋杰，用手機偷拍2納米機密資料，上周法院裁定，陳力銘、陳韋杰二人分別自4月1日及4月8日起，延長羈押2個月。

臺灣地區高等檢察署智能財產檢察分署起訴稱，陳力銘曾擔任臺積電Feb 12廠良率部門工程師，離職后進入臺積電的半導體制造設備供應商——TOKYO ELECTRON（簡稱TEL）營銷部門。

檢方表示，2023年至去年上半年期間，陳力銘為幫助TEL爭取成為臺積電先進制程更多站點的設備供應商，多次要求當時仍在臺積電任職的工程師吳秉駿、戈一平提供關鍵技術及營業秘密，并將相關資料拍攝復制后，交由TEL用于檢討改善蝕刻機臺性能，以爭取臺積電2納米制程蝕刻站點量產機臺的供應資格。

臺積電發現異常后開展內部調查，懷疑有在職及離職員工非法獲取關鍵技術與營業秘密，于去年7月8日提起告訴。同年7月25日至28日，智財分署檢察官指揮調查局開展搜索、約談工作，訊問結束后，依法申請對陳力銘、吳秉駿、戈一平予以羈押并禁止會見，獲得法院批準。

去年8月27日，智財分署依據所謂“營業秘密法”中“意圖域外使用而竊取營業秘密罪”“竊取營業秘密罪”，以及臺灣地區所謂“安全法”中“國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪”，對三人提起公訴，并建議法院判處陳力銘執行有期徒刑14年、吳秉駿執行有期徒刑9年、戈一平有期徒刑7年。

檢方后續進一步查明，2024年5月，陳力銘涉嫌指使前臺積電工程師陳韋杰，用手機偷拍了數十張涉及2納米制程原料與設備技術的機密資料。事件曝光后，TEL一名盧姓營銷經理疑似為掩蓋證據，刪除了云端硬盤內存儲的臺積電相關機密資料。

檢方以違反臺灣地區所謂“安全法”及湮滅刑事證據等罪嫌，追加起訴陳力銘、陳韋杰、盧姓經理及TEL公司，分別建議法院判處陳力銘有期徒刑7年、陳韋杰有期徒刑8年8個月、盧姓經理有期徒刑1年，對TEL公司建議判處罰金2500萬元新臺幣。

全案偵查終結后，檢方于今年1月提起第二次公訴；陳韋杰被移送審理后，也被智慧財產及商業法院裁定繼續羈押。昨日下午，智慧財產及商業法院完成法庭辯論，定于今年4月27日上午11時宣判，同時責令吳秉駿、戈一平于宣判當日到庭聽判。

此外，檢方考量到被告人陳韋杰否認其違反臺灣地區所謂“安全法”的犯罪行為，其對涉案情節、作案手段的供述前后不一，且對犯罪細節避重就輕；同時，針對陳韋杰共同犯罪的相關情節，仍有必要對相關電子記錄與同案犯陳力銘及其他證人的供述內容進行核對查證。檢方認為，若陳力銘、陳韋杰二人繼續羈押，仍有相互串供或湮滅證據的可能，進而導致案情無法查清，原羈押理由依然成立。據此，今日法院裁定，陳力銘、陳韋杰分別自今年4月1日及4月8日起，延長羈押2個月，并禁止其接見、通信。