中國囤積了800多臺光刻機，美國的制裁完全跟不上中國突破的速度

前沿導讀

美國在光刻機領域的對華制裁是循序漸進的，并沒有一開始就封鎖全部設備的出口。而是先封鎖最先進的EUV，然后封鎖先進的浸潤式DUV，最后又封鎖較為落后的浸潤式DUV。

至于那些制造成熟芯片的干式DUV設備，美國并沒有對其實施出口管制，一方面是因為西方國家需要中國企業(yè)用落后的設備制造成熟芯片，另一方面就是因為中國的自主光刻機已經實現了技術突破，可以在成熟芯片節(jié)點實現國產化替代，美國對同類型設備實施出口管制沒有任何效果。

囤積設備

美國針對中國實施大規(guī)模設備禁運的政策發(fā)生在2023年，在此之前，ASML的EUV光刻機不被允許交付給中國企業(yè)，但是其他DUV光刻機依然可以正常交付。

根據ASML歷年的官方財報顯示，2022年中國大陸地區(qū)占ASML總銷售的14%，2023年中國大陸地區(qū)占ASML總銷售的29%。到了2024年，中國大陸地區(qū)占ASML總銷售的比例暴增至41%，成為了ASML全球最大的單一消費市場。

2023年6月30日，荷蘭政府發(fā)布公告稱已制定全新的出口管制措施，該措施將限制ASML更多的芯片制造設備運往中國。該措施將于2023年9月1日正式實施，在此之前ASML可以正常交付中國企業(yè)所采購的設備。

此次出口管制針對的是NXT：2000i及以上先進浸潤式光刻機的對華出口，略差一些的NXT：1980Di和NXT：1980Fi并沒有被劃分到管制條例中，可以繼續(xù)向中國企業(yè)進行出口。

而那些能夠制造45nm以上芯片的設備，如65nm~220nm制程的干式DUV光刻機 XT：400L、XT：1460K、NXT：870等設備，均不在荷蘭政府的管控清單內，可以完全出口給中國企業(yè)。

據《環(huán)球時報》新聞指出，2023年9月1日ASML已獲得最新的出口許可，可以在年底之前向中國客戶交付已經下單的NXT:2000i及以上的浸潤式光刻機。但是只限于交付之前簽訂合同的設備，不允許在此期間簽訂新的合作協(xié)議。

ASML發(fā)言人對此解釋稱：從9月開始的四個月期限是為了讓ASML能夠履行與中國客戶的合同義務，但預計不會獲得新出口許可證。

參考資料：
「鏈接」

據海關數據顯示，2023年中國從荷蘭進口的光刻機設備已經超過了2022年全年的總數量。在出口管制不斷加碼的情況下，中國企業(yè)抓緊一切時間從ASML手中采購所需的制造設備。

2023年8月29日，在時任美國商務部長雷蒙多訪華期間，華為發(fā)布了mate60系列產品。該產品的突然發(fā)布在國內外引起了極大熱度，其搭載的全新麒麟芯片也成為了國際技術機構重點關注的對象，同時也把中荷之間的光刻機業(yè)務推向風口浪尖。

加碼制裁

2023年10月，由荷蘭《新鹿特丹商報》記者馬克·海金克所撰寫的個人作品《FOCUS - THE ASML WAY》正式發(fā)布。

據海金克在作品中指出，2023年中國大陸地區(qū)總共持有800多臺光刻機設備。其中有一半都在中國本土企業(yè)的手中，其余的則是被三星、SK海力士、臺積電南京工廠等大陸合資企業(yè)所持有。

EUV光刻機無法進入中國市場，但中國企業(yè)采購的這些浸潤式DUV光刻機還可以通過多重圖案化技術制造先進芯片。不過這種技術的總體成本很高，一次曝光之后還需要經過多次沉積和刻蝕步驟的交替，一旦沉積和刻蝕設備的精度達不到要求，其芯片的良品率會變得非常低。

所以中國企業(yè)在采購ASML光刻機的同時，也采購了許多來自于美國應用材料、泛林、科磊所制造的沉積和刻蝕設備。

美國政府和美國企業(yè)很愿意看到這種場面，既壓制了中國芯片的技術發(fā)展，又可以讓美國企業(yè)從中賺的盆滿缽滿。

但出乎美國政府意料的是，中國企業(yè)真的拿DUV光刻機通過多重圖案化技術實現了7nm芯片的量產，而且還以華為手機當做載體，直接放在市場上公開銷售。

時任美國商務部長的雷蒙多還對此分析稱，美國沒有找到任何證據可以證明中國擁有批量制造7nm芯片的能力，華為新手機的發(fā)布不代表中國突破了美國的制裁。

參考資料：
雷蒙多：無證據顯示中國能量產先進晶片 | 聯合早報網

隨著產品的更新以及芯片產能的提升，美國意識到中國掌握了某些突破封鎖的技術方法，曾經購買的DUV光刻機成為了中國企業(yè)制造先進芯片的關鍵因素。

2024年9月6日，ASML發(fā)布公告稱，荷蘭政府發(fā)布了最新一輪的管制措施。在封鎖NXT:2000i及以上光刻機對華出口的基礎上，將差一些的NXT:1970i、NXT:1980i一并納入管制范圍，不允許ASML將納入管制條例的設備出口給中國大陸地區(qū)具有Fin FET生產線的敏感工廠，該政策自發(fā)布后的第二天起立即生效。

參考資料：

• Statement regarding Dutch government's updated export license requirement

此次政策的生效時間非常短，完全沒有給中國企業(yè)任何獲得設備的機會。此前中國企業(yè)向ASML所提交的采購訂單全部作廢，已經進入運送階段的設備緊急攔截，只要是ASML制造的浸潤式光刻機，無論進入到哪個階段，全部不允許與中國敏感的工廠建立聯系。

美國對荷蘭施壓，企圖封鎖后續(xù)的設備來干擾中國先進芯片的研發(fā)進度，這本質上是一種亡羊補牢的做法。看似切斷了中國企業(yè)獲取先進光刻機的渠道，但是中國企業(yè)依靠曾經采購的設備，依靠國家給予的資金補助，再加上中國團隊一直對其實施技術維護，這足以支撐起國產先進芯片的產能。